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J-GLOBAL ID:201702224849046801   整理番号:17A0365406

静電集合プロセスによる超低パーコレーションしきい値を持つポリスチレン/グラフェンナノ複合材料の調製のための容易な方法【Powered by NICT】

A facile approach for preparation of polystyrene/graphene nanocomposites with ultra-low percolation threshold through an electrostatic assembly process
著者 (9件):
資料名:
巻: 134  ページ: 49-56  発行年: 2016年 
JST資料番号: H0433A  ISSN: 0266-3538  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ポリママトリックス中へのグラフェンナノシート(GN)の分散を改善するナノ複合材料のパーコレーション閾値を低下させる際に重要な段階である。本論文では,静電組立工程に基づく効果的な方法を報告した。初めてのカチオン性界面活性剤,PSミセルの表面上に正電荷を生成するとしてヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(CTAB)を用いて調製したポリスチレン(PS)ラテックス。in situ解乳化プロセスは,正に荷電したPSラテックスへの負に帯電したグラフェン酸化物(GO)粒子を添加することにより行った。,GOシートを静電吸着によりPS粒子の表面に自発的に付着していた。in situ還元とホットプレスによって,GNの凝集は,PSミクロスフェアが禁止され,PSマトリックス中のGNネットワークの形成を促進した。得られたPS/GNナノ複合材料は0.054vol.%GNの低いパーコレーションしきい値を持つ優れた電気的性質を示した。GN含有量が1.53vol.%に達すると,電気伝導度は46.32 7S/mと熱伝導率0.47mkであった。この戦略は,新しい環境に優しい経路,他の高分子マトリックスに適用可能な,超低GN含有量で完全に相互連結したグラフェンネットワークを有する高分子複合材料の大規模生産を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (4件):
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炭素とその化合物  ,  機械的性質  ,  強化プラスチックの成形  ,  高分子固体の物理的性質 

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