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J-GLOBAL ID：201702229845254544   整理番号：17A0881582

抑制損失正接に向けて:コア-シェル構造フレーク状Cu強化PVDF複合材料の誘電特性に及ぼすSiO_2被覆層の影響【Powered by NICT】

Towards suppressing loss tangent: Effect of SiO₂ coating layer on dielectric properties of core-shell structure flaky Cu reinforced PVDF composites

著者 (10件)： Zhou Wenying (School of Chemistry and Chemical Engineering, Xi’an University of Science & Technology, Xi’an, 710054, People’s Republic of China) ,  Zhou Wenying (Key Laboratory of Engineering Dielectrics and Its Application, Ministry of Education Harbin, University of Science and Technology, Harbin, 150080, People’s Republic of China) ,  Xu Li (School of Chemistry and Chemical Engineering, Xi’an University of Science & Technology, Xi’an, 710054, People’s Republic of China) ,  Jiang Liyang (School of Chemistry and Chemical Engineering, Xi’an University of Science & Technology, Xi’an, 710054, People’s Republic of China) ,  Peng Jiandong (School of Chemistry and Chemical Engineering, Xi’an University of Science & Technology, Xi’an, 710054, People’s Republic of China) ,  Gong Ying (School of Chemistry and Chemical Engineering, Xi’an University of Science & Technology, Xi’an, 710054, People’s Republic of China) ,  Liu Xiangrong (School of Chemistry and Chemical Engineering, Xi’an University of Science & Technology, Xi’an, 710054, People’s Republic of China) ,  Cai Huiwu (School of Chemistry and Chemical Engineering, Xi’an University of Science & Technology, Xi’an, 710054, People’s Republic of China) ,  Wang Guangheng (School of Chemistry and Chemical Engineering, Xi’an University of Science & Technology, Xi’an, 710054, People’s Republic of China) ,  Chen Qingguo (Key Laboratory of Engineering Dielectrics and Its Application, Ministry of Education Harbin, University of Science and Technology, Harbin, 150080, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 710  ページ： 47-56  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々厚さシリカ(SiO_2)を被覆したフレーク状Cu(f Cu)粒子をポリ(フッ化ビニリデン)(PVDF)中に取り込まれたSiO_2被覆層の効果と複合材料の誘電特性に及ぼすその厚さを調べた。複合材料の形態学的および誘電特性を評価した。結果はSiO_2被覆層はCu@SiO_2とf Cu@SiO_2/PVDF,の電気特性に著しく影響することおよびf Cu@SiO_2粒子とPVDF複合材料は原料f Cuと比較して優れた誘電特性を示した。f Cu@SiO_2/PVDFの散逸因子(tanδ)は顕著に抑制され,互いに接触f Cu粒子を防止との間の中間層として役立つSiO_2シェルの存在のためにかなり低いレベルに減少した。さらに,tanδに及ぼす抑制の影響をSiO_2被覆層の厚さが増加するとより顕著になる傾向があった。調製したままの複合材料は高い誘電率と低いtanδを有し,それらは埋め込まれたキャパシタとして工業的応用に有望である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *複合材料 ,  モルフォロジー ,  *損失正接 ,  誘電率 ,  *誘電性 ,  電気特性 ,  *コアシェル構造 ,  コンデンサ ,  *被覆層 ,  *ポリフッ化ビニリデン ,  *フレーク ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： 中間層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 高分子 ,  エラストマとプラスチック ,  金属 ,  表面と界面 ,  誘電応答

分類 (3件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J) ,  磁気的性質  (WB02020J)

タイトルに関連する用語 (9件)： 損失正接 ,  コア-シェル構造 ,  フレーク状 ,  Cu ,  強化 ,  PVDF ,  複合材料 ,  誘電特性 ,  被覆層