文献

J-GLOBAL ID：201702230124341552   整理番号：17A0660289

水溶液中の微量重金属の検出のためのNafionの取込に及ぼす熱還元グラフェン酸化物電極のナノ構造回復【Powered by NICT】

Nanostructure Restoration of Thermally Reduced Graphene Oxide Electrode upon Incorporation of Nafion for Detection of Trace Heavy Metals in Aqueous Solution

著者 (9件)： Lee Pui Mun (Interdisplinary Graduate School, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore, 639798, Singapore) ,  Lee Pui Mun (Environmental Chemistry and Materials Group, Nanyang Environment and Water Research Institute, Nanyang Technological University, 1 Cleantech Loop, Singapore, 637141, Singapore) ,  Lee Pui Mun (School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798, Singapore) ,  Lee Pui Mun (School of Materials Science and Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore, 639798, Singapore) ,  Ng Hai Woon (School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798, Singapore) ,  Lim Ju Dy (School of Materials Science and Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore, 639798, Singapore) ,  Khun Nay Win (School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798, Singapore) ,  Chen Zhong (School of Materials Science and Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore, 639798, Singapore) ,  Liu Erjia (School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798, Singapore. [e-mail])
資料名： Electroanalysis  (Electroanalysis)
巻： 28  号： 9  ページ： 2037-2043  発行年： 2016年 
JST資料番号： T0736A  ISSN： 1040-0397  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコン(Si)基板(RGO N/Si)上に被覆された高性能還元グラフェン酸化物(RGO)-Nafion(N)薄膜電極を基板から層間剥離無しでGONの熱還元による開発に成功した。Nafionの添加によりRGONナノ構造の回復はRaman分光法(RS)と電界放出走査電子顕微鏡によって証明された,RGONナノ構造の回復機構を提案した。X線光電子分光法(XPS)を用いた研究により,Nafionからポリフルオロカーボンは,RGOシートの剥離を防ぐ熱還元の間に基板からできる機能を有していた。RGO/Si試料は,その後,0.1M酢酸緩衝液(pH 5)の矩形波アノーディックストリッピングボルタンメトリーを用いた痕跡量重金属の定量,二価の鉛,カドミウムおよび銅イオン(Pb~2+,Cd~2+及びCu~2+)などのために使用した。電気分析測定に基づいて,RGO/Si試料はnMレベルでの検出限界は50nM~300nMの濃度範囲でCd~2+,Pb~2+およびCu~2+の検出において高度な直線挙動を示した。さらに,RGO/Si試料を水道水試料中の標的金属の良好な回収率を示した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電解分析 ,  *グラフェン ,  鉛 ,  膜電極 ,  検出限界 ,  X線光電子分光法 ,  カドミウム ,  *重金属 ,  Raman分光法 ,  アノーディックストリッピングボルタンメトリー
準シソーラス用語： 銅イオン ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  *酸化グラフェン ,  *熱還元 ,  *Nafion , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ナノ構造回復 ,  ポリフルオロカーボン ,  グラフェンNafionナノ複合材料 ,  熱還元 ,  微量カドミウム ,  鉛と銅

分類 (1件)： 分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (7件)： 水溶液 ,  重金属 ,  Nafion ,  取込 ,  還元グラフェン酸化物 ,  ナノ構造 ,  回復