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J-GLOBAL ID:201702230369456083   整理番号:17A0057903

リセスゲートによる縮尺AlGaN/GaNH FETの改善された性能【Powered by NICT】

Improved performance of scaled AlGaN/GaN HFETs by recessed gate
著者 (6件):
資料名:
巻: 2016  号: SSLChina: IFWS  ページ: 107-109  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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スケールされたAlGaN/GaNH FETの性能はゲートリセス技術と再成長n~+GaN Ohm接触を用いて顕著に改善された。ソースに対するドレイン距離(Z_sd)は再成長n~+GaN Ohm接触を用いて600nmにスケールアップした。低損傷ゲートリセスは60nmのT形ゲートメタライゼーションの前に採取した。ドレイン電流曲線は,ニー電圧で平坦になるが,短チャネル効果は,ゲートリセス後明らかに抑制された。ピーク相互コンダクタンス(g_m)は607mS/mmから764mS/mmであった。さらに,ゲートリセス後,最大発振周波数(f_max)の値は,192GHzから263GHzに増加し,はの単位電流利得遮断周波数(f_T)値の減少はほとんどなかった。ゲートリセスを持つデバイスは,AlGaN/GaNH FETにおけるf_T f_maxの記録的値を示した。これはAlGaN/GaNHFETsはさらなる最適化によるDバンド応用の可能性を持つことを示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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