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J-GLOBAL ID：201702231525957182   整理番号：17A0751791

ランタンドープシリカ担持Ni触媒における改善された性能の起源【Powered by NICT】

Origin of the Improved Performance in Lanthanum-doped Silica-supported Ni Catalysts

著者 (10件)： Baudouin David (Institut de Chimie de Lyon, Universite de Lyon, UMR 5265 CNRS -UCBL-CPE Lyon, LC2P2, CPE Lyon, 43 Bd du 11 Novembre 1918, 69616, Villeurbanne, France) ,  Baudouin David (Department of Chemistry and Applied Biosciences, ETH Zuerich, 2 Vladimir Prelog Web. 1-5 ETH Zurich, 8093, Zurich, Switzerland) ,  Margossian Tigran (Department of Chemistry and Applied Biosciences, ETH Zuerich, 2 Vladimir Prelog Web. 1-5 ETH Zurich, 8093, Zurich, Switzerland) ,  Rodemerck Uwe (Leibniz Institute for Catalysis at, University Rostock, Albert-Einstein-Strasse 29a, 18059, Rostock, Germany) ,  Webb Paul B. (Sasol Technology (UK) Ltd., Purdie Building, North Haugh, St. Andrews, KY16 9ST, UK) ,  Veyre Laurent (Institut de Chimie de Lyon, Universite de Lyon, UMR 5265 CNRS -UCBL-CPE Lyon, LC2P2, CPE Lyon, 43 Bd du 11 Novembre 1918, 69616, Villeurbanne, France) ,  Krumeich Frank (Department of Chemistry and Applied Biosciences, ETH Zuerich, 2 Vladimir Prelog Web. 1-5 ETH Zurich, 8093, Zurich, Switzerland) ,  Candy Jean-Pierre (Institut de Chimie de Lyon, Universite de Lyon, UMR 5265 CNRS -UCBL-CPE Lyon, LC2P2, CPE Lyon, 43 Bd du 11 Novembre 1918, 69616, Villeurbanne, France) ,  Thieuleux Chloe (Institut de Chimie de Lyon, Universite de Lyon, UMR 5265 CNRS -UCBL-CPE Lyon, LC2P2, CPE Lyon, 43 Bd du 11 Novembre 1918, 69616, Villeurbanne, France) ,  Coperet Christophe (Department of Chemistry and Applied Biosciences, ETH Zuerich, 2 Vladimir Prelog Web. 1-5 ETH Zurich, 8093, Zurich, Switzerland)
資料名： Chemcatchem  (Chemcatchem)
巻： 9  号： 4  ページ： 586-596  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2356A  ISSN： 1867-3880  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 乾式改質触媒はLaをドープしたシリカ上のNiナノ粒子(2 3 nm)を担持することにより調製した。これらの材料はNi/SiO_2またはNi/La_2O_3より低温乾式改質(773 K)における高い活性と安定性を示した。Laをドープしたシリカ担持触媒はLa_2O_3および/またはSiO_2よりもむしろその表面で独占的にたケイ酸ランタンことが分かった。LaのCO_2吸着容量と強さの両方に有利であることが分かったが,ニッケル粒子上の水素吸着強度に有意に影響し,H_2昇温脱離分析によって証明された。CH_4昇温還元分析は,CH_4割れしきい値温度はNi_bulk<Ni/La_34@SiO_2<Ni/La_2.1@SiO_2≪Ni/SiO_2<Ni/La_2O_3,触媒性能を平行に変化することを明らかにした。Laをドープしたシリカ上に担持したNiナノ粒子(2 3 nm)に及ぼすCH_4,H_2,CO_2の吸着を平衡この低温乾燥改質触媒の触媒性能を改善する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ドーピング ,  触媒活性 ,  担持触媒 ,  *触媒 ,  昇温脱離 ,  *二酸化ケイ素 ,  TPR【触媒】 ,  ナノ粒子 ,  *ランタン ,  亀裂 ,  低温
準シソーラス用語： 改質触媒 ,  水素吸着 ,  吸着容量 ,  乾式改質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 二酸化炭素固定 ,  ドーピング ,  ランタン ,  ニッケル ,  担持触媒

分類 (3件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  貴金属触媒  (CB06122I) ,  アルカン  (CF03020I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 担持 ,  Ni ,  触媒 ,  起源