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J-GLOBAL ID：201702231608529826   整理番号：17A0237755

高強度レーザパルスを用いたインタクト吸着分子放出の機構

Mechanism of Intact Adsorbed Molecules Ejection Using High Intensity Laser Pulses

著者 (5件)： FURMAN David (Hebrew Univ. of Jerusalem, Jerusalem, ISR) ,  FURMAN David (NRCN, Beer-Sheva, ISR) ,  KOSLOFF Ronnie (Hebrew Univ. of Jerusalem, Jerusalem, ISR) ,  ZEIRI Yehuda (NRCN, Beer-Sheva, ISR) ,  ZEIRI Yehuda (Ben Gurion Univ., Beer-Sheva, ISR)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 120  号： 20  ページ： 11306-11312  発行年： 2016年05月26日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応分子動力学シミュレーションを用いて,高強度レーザパルスによる基板上の薄膜からのインタクト吸着中性分子の放出現象を解析しその放出機構を提案した。ここで,基板上に沈着した薄膜として2,4,6-トリニトロトルエン(TNT)及び低温におけるベンゼンを用いた。基板による高強度レーザパルスの吸収にともなって形成する熱プラズマプルームから発生する衝撃波が減衰せずに薄膜を伝わり,結果として基板上の吸着分子を気相へ放出するという機構が考えられた。この機構は衝撃波の速度領域に依存することがわかった。報告されている最近の実験結果は,本研究の反応分子動力学シミュレーションに基づいて提案した機構を支持している。

シソーラス用語： *レーザパルス ,  吸着 ,  *計算機シミュレーション ,  パルスレーザ ,  中性分子 ,  薄膜 ,  プルーム ,  プラズマ溶射 ,  *衝撃波 ,  速度依存性 ,  *分子動力学 ,  プラズマプルーム ,  レーザ吸収 ,  吸着分子 ,  *分子動力学シミュレーション ,  *計算機利用 ,  *利用 ,  芳香族ニトロ化合物 ,  芳香族炭化水素
準シソーラス用語： 高強度レーザ

分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  質量分析  (CC03013N)

物質索引 (2件)： TNT ,  ベンゼン

タイトルに関連する用語 (4件)： 高強度レーザ ,  パルス ,  吸着分子 ,  放出