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J-GLOBAL ID：201702231755379201   整理番号：17A0388163

GaNの摩耗の抑制要因

Controlling factors of GaN wear

著者 (6件)： ZENG Guosong (Lehigh Univ., PA, USA) ,  YANG Xiaofang (Princeton Univ., NJ, USA) ,  SKINNER Charles H. (Princeton Plasma Physics Lab., NJ, USA) ,  KOEL Bruce E. (Princeton Univ., NJ, USA) ,  TANSU Nelson (Lehigh Univ., PA, USA) ,  KRICK Brandon A. (Lehigh Univ., PA, USA)
資料名： Tribology & Lubrication Technology  (Tribology & Lubrication Technology)
巻： 73  号： 3  ページ： 22-24,26-28  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： C0445A  ISSN： 1545-858X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 摩擦計を使用して窒化ガリウム(GaN)の摩耗率を測定し,GaNの摩耗性能に対する指向性および水分効果を調査した。摩耗表面は,いくつかの表面特性化技術によって分析した。その結果,低湿度環境下では摩擦化学反応が起こり,高湿度環境下の場合には摩耗プロセスを支配してGaNが極めて低い摩耗率であることを示した。ロータリー試験では,GaNの摩耗性能が最高摩耗率(1210)および最低摩耗率(1100)の指向性があることを明らかにした。また,走査電子顕微鏡観察およびエネルギー分散X線分光分析により,低湿度環境下で厚い酸化被膜が形成されることを示した。

シソーラス用語： *窒化ガリウム ,  摩耗 ,  *摩耗特性 ,  抑制 ,  試験装置 ,  摩耗試験 ,  摩耗率 ,  指向性 ,  水分特性 ,  評価 ,  依存性 ,  摩擦化学反応 ,  電子顕微鏡観察 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  酸化膜
準シソーラス用語： EDS【分光分析】 ,  GaN ,  トライボメータ ,  機械的特性評価 ,  湿度依存性 ,  走査電子顕微鏡観察

分類 (2件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (3件)： GaN ,  摩耗 ,  要因