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J-GLOBAL ID：201702232295410591   整理番号：17A0589931

SiCの新しい超精密・微細加工プロセスの開拓について~理研・九大連携研究~

著者 (8件)： 大森整 (理研) ,  金允智 (理研) ,  上原嘉宏 (理研) ,  浜島基 (理研) ,  浜島基 (早稲田大) ,  黒河周平 (九大) ,  梅津信二郎 (理研) ,  梅津信二郎 (早稲田大)
資料名： マイクロファブリケーション研究の最新動向  (マイクロファブリケーション研究の最新動向テキスト)
巻： 39  ページ： 28  発行年： 2016年10月21日 
JST資料番号： L3461A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *炭化ケイ素 ,  化学蒸着 ,  研削 ,  砥粒 ,  鏡面仕上 ,  ウエハ【IC】 ,  微細加工
準シソーラス用語： SiC ,  *CVD法 ,  *ELID研削 ,  ダイヤモンド砥粒

分類 (1件)： 研削・研摩材  (YC06020Q)

タイトルに関連する用語 (9件)： SiC ,  超精密 ,  微細加工 ,  プロセス ,  開拓 ,  理研 ,  九大 ,  連携 ,  研究