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J-GLOBAL ID:201702235022293490   整理番号:17A0166158

層と3の共焼結による太陽電池の背面電極を調製した。【JST・京大機械翻訳】

Back surface field structure of silicon solar cell by co-sintering of passivation film and aluminum paste
著者 (4件):
資料名:
巻: 35  号: 11  ページ: 72-76  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2506A  ISSN: 1001-2028  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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シリコン太陽電池の新しい構造とその形成法を提案し,シリコンウエハの裏側に窒化ケイ素層を作製し,次に背面層を印刷し,層と3により共ドープした太陽電池の背面構造を作製した。窒化ケイ素と反応し易い高活性ガラス粉末を従来のLvJiangに添加し,層の厚さ,ガラス粉末の種類,および含有量が窒化のアブレーション効果と,シリコン電極間の接触抵抗に及ぼす影響を比較した。LvJiang中の高活性ガラス粉体の質量分率が4%で,窒化ケイ素の厚さが10NMのとき,従来のLvJiangと比較して,シリコンウエハ上で調製した電池の最大効率は0.26%増加した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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太陽電池 
タイトルに関連する用語 (5件):
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