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J-GLOBAL ID:201702238107614738   整理番号:17A0323422

Zr~4+とGe~4+を同時ドープしたTiO_2とヒドロフルオロエーテル懸濁液を用いた高感度装置材料の化学兵器剤の除染【Powered by NICT】

Decontamination of Chemical Warfare Agents on sensitive equipment materials using Zr4+ and Ge4+ co-doped TiO2 and hydrofluoroether suspension
著者 (9件):
資料名:
巻: 302  ページ: 111-119  発行年: 2016年 
JST資料番号: D0723A  ISSN: 1385-8947  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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化学兵器剤(CWAs)の光触媒分解のための新しいZr~4+及びGe~4+を共ドープした二酸化チタン(Zr Ge TiO_2)ナノ粒子を均一沈殿法により調製した。高感度装置をもつ溶媒の揮発,CWAsに対する溶解度,と適合性を考慮して,ヒドロフルオロエーテル(HFE)は,最初の懸濁液汚染防止剤の分散溶媒として用いた。,447.9m~2g~( 1)の比表面積を有するZr(5.02wt%)-Ge(0.94wt%)-TiO_2は最良の光触媒性能を示した。これはそれぞれHFE458(HCF_2CF_2CH_2OCF_2CF_2H)とHFE6512(HCF_2CF_2CF_2CF_2CH_2OCF_2CF_2H)中に分散させた。新しいガス収集システムは反応過程で蒸発を研究するために設計した。その結果,HFE6512であるHFE458より分散溶媒としてより適している。HFE6512で調製した懸濁液は,HD,GD,VX,2-CEES及びDMMPの高い分解効率を持つだけでなく,揮発性少ない剤を持っている。模擬太陽光照射下で,表面除去とHD,GD,VX,2-CEES及びDMMPの分解効率は37分後に99.95%以上であった。結果をこの懸濁液は敏感な装置材料のCWAsの除染への応用の可能性を持つことを示した。CWAsとそれらの類似物の高吸収効率により,設計されたガス収集システムは溶媒と改善消毒効果の選択のための信頼性が高い。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (3件):
分類
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下水,廃水の化学的処理  ,  触媒操作  ,  用水の化学的処理 
タイトルに関連する用語 (5件):
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