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J-GLOBAL ID:201702244347976271   整理番号:17A0303423

金属吸着原子ドーピングによるホスホレンの異常に増強された熱安定性:実験と第一原理研究【Powered by NICT】

Anomalously enhanced thermal stability of phosphorene via metal adatom doping: An experimental and first-principles study
著者 (5件):
資料名:
巻:号:ページ: 2687-2695  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2652A  ISSN: 1998-0124  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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ホスホレンとして知られている,原子的に薄い黒りんは新たな二次元(2D)材料,そのユニークな電子および光電子特性のためにますます注目を集めている。しかし,ホスホレンの低下した熱安定性は高温製造プロセス,ホスホレンベースデバイスの性能に有害であるのその適合性を制限している。,ホスホレンの熱安定性に及ぼすAlとHf遷移金属吸着原子によるドーピングの影響を調べた。Al-P共有結合の形成は0.00044,0.00081~A_g~1,B_2g,A_g~2フォノンモードの熱係数,および二桁低い元のP-P結合(~0.01cm( 1)°C( 1))で観察されたものよりも,それぞれ,0.00012cm( 1)°C( 1)を顕著に改善することが分かった。密度汎関数理論の枠組みで第一原理計算は,Alドープ材料で観測される熱安定性増強は有意に高いAl結合エネルギーを反映し,非ドープ材料における隣接P原子間の弱いvan der Waals相互作用に比べてより強いAl-P結合に起因することを明らかにした。本研究は,改良された構造安定性を有するホスホレン材料への道,潜在的ナノエレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス応用のための有望な候補である可能性を開くものである。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (9件):
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貴金属触媒  ,  固-気界面一般  ,  絶縁体結晶の電子構造  ,  分子の電子構造  ,  金属,合金の化学熱力学(混合系)  ,  酸化物薄膜  ,  トランジスタ  ,  エネルギー貯蔵  ,  固相転移 

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