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J-GLOBAL ID:201702244431378963   整理番号:17A0244687

電離放射線照射下での滑石の反応機構 高安定性H原子の証拠

Reaction Mechanisms in Talc under Ionizing Radiation: Evidence of a High Stability of H Atoms
著者 (7件):
資料名:
巻: 120  号:ページ: 2087-2095  発行年: 2016年02月04日 
JST資料番号: W1877A  ISSN: 1932-7447  CODEN: JPCCCK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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2種類の滑石(水熱合成した合成滑石と天然滑石)に電離放射線(10MeVの電子パルス)を照射することによるH2発生反応をガスクロマトグラフィーにより調べた。その結果,合成滑石に対する電子パルス照射によって発生するH2分子は水に対する照射で得られるH2と同程度であり,構造-OH化学種からの非常に効率的な水素原子の生成とその再結合が速いことを示した。合成滑石の電子パルス照射によって生成した欠陥を電子常磁性共鳴(EPR)により調べた。観測されたHのEPRスペクトルは,両滑石について298Kでも照射後,数日間は検出された。H原子のこの驚くべき安定性は水分子が存在しないためであり,生成した水素原子は2個の四面体シート間の八面体中で安定化されると考えられる。
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分類 (2件):
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合成鉱物  ,  電子源,イオン源 
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