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J-GLOBAL ID：201702247739944248   整理番号：17A0408940

C&D廃棄物埋立地におけるひ素の浸出とスペシエーションと石膏ドライウォール含量との関係【Powered by NICT】

Arsenic leaching and speciation in C&D debris landfills and the relationship with gypsum drywall content

著者 (4件)： Zhang Jianye (Department of Environmental Engineering Sciences, University of Florida, P.O. Box 116450, Gainesville, FL 32611, USA) ,  Kim Hwidong (Department of Environmental Science and Engineering, Gannon University, 109 University Square, Erie, PA 16541-0001, USA) ,  Dubey Brajesh (Environmental Engineering and Management Division, Department of Civil Engineering, Indian Institute of Technology - Kharagpur, Kharagpur, West Bengal 721302, India) ,  Townsend Timothy (Department of Environmental Engineering Sciences, University of Florida, P.O. Box 116450, Gainesville, FL 32611, USA)
資料名： Waste Management (Kidlington)  (Waste Management (Kidlington))
巻： 59  ページ： 324-329  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0898C  ISSN： 0956-053X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヒ素浸出とスペシエーションに及ぼす硫化物濃度の影響を,実験室規模の建設と解体(C&D)残骸埋立地から発生する浸出水,種々の割合の石膏ドライウォールのを含む模擬ライシメータを用いて調べた。ライシメータでの乾式壁百分率を,それぞれ,0 1 6,および12.4wt%(重量パーセント)であった。乾式壁の12.4wt%を含む制御ライシメータを除いて,各ライシメータは,クロム化ヒ酸銅(CCA)処理木材,10wt%C&D廃棄物の説明を含んでいた。研究の期間中,ライシメータは嫌気性条件であった。浸出液分析の結果は,硫化物レベル乾式壁の割合は埋立地で増加することを示したが,浸出液中のヒ素濃度は,硫化物濃度と直線的に相関しなかった。代わりに,ヒ素濃度硫化物として減少は約1000μg/Lまで増加したが,硫化物濃度がさらに増加すると増加した,ひ素対硫化プロットにV形を形成した。浸出液中のひ素のスペシエーションの分析は,硫化物濃度が変わると異なる種の分布を示した。亜ヒ酸塩(As(III))スルフィドレベル増加の割合は増加し,硫化物レベルが更に増加するとチオヒ酸塩アニオン(As(V))が検出された(>10~4 μg/L)。高い範囲硫化のでの硫化物および可溶性チオヒ素アニオン種の低い範囲で不溶性硫化ひ素鉱物の形成は,ヒ素浸出の減少と増加傾向に寄与した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *浸出 ,  ヒ酸 ,  *ヒ素 ,  硫化 ,  *埋立地 ,  可溶性 ,  *スペシエーション ,  浸出液 ,  不溶性 ,  *石膏 ,  亜ヒ酸塩 ,  ライシメータ ,  *最終処分場 ,  硫化ヒ素 ,  嫌気性 ,  溶解性

著者キーワード (6件)： C&D埋立地 ,  ひ素 ,  Leaching ,  石膏ボード ,  硫化 ,  Speciation

分類 (1件)： ごみ処理  (SC05030O)

タイトルに関連する用語 (7件)： 廃棄物埋立地 ,  ひ素 ,  浸出 ,  スペシエーション ,  石膏 ,  ウォール ,  含量