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J-GLOBAL ID：201702247762343451   整理番号：17A0391511

マグネトロンスパッタリング法による備Mu薄膜の研究の現状【JST・京大機械翻訳】

Current status of research on preparation of molybdenum thin film by magnetron sputtering

著者 (4件)： Liang Tingting (Henan University of Science and Technology) ,  Wang Aiqin (Henan University of Science and Technology) ,  Zhao Haili (鄭州大学) ,  Xie Jingpei (Henan University of Science and Technology)
資料名： Diandu yu Tushi  (Diandu yu Tushi)
巻： 35  号： 24  ページ： 1311-1316  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1499A  ISSN： 1004-227X  CODEN： DYTUEM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 基板の表面状態と予熱温度、ターゲット組織と熱処理温度、スパッタリング工程パラメータ(時間、パワー、気圧と距離を含む)、及び後続焼鈍処理がマグネトロンスパッタリングによって調製したMO薄膜の組織と性能に与える影響を総説した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： プロセスパラメータ ,  焼なまし ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタリング ,  *薄膜
準シソーラス用語： 熱処理温度 ,  予熱温度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： molybdenum ,  thin film ,  magnetron sputtering ,  preparation condition ,  microstructure ,  property

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： マグネトロンスパッタリング ,  薄膜 ,  研究 ,  現状