SF<sub>6</sub>火花放電分解成分の発生プロセスに及ぼす痕跡量H<sub>2</sub>Oの影響機構

TANG Ju; RAO Xiajin; ZENG Fuping; CAI Wei; CHENG Lin; ZHANG Chaohai

文献

J-GLOBAL ID：201702248015302612 整理番号：17A0330500

SF₆火花放電分解成分の発生プロセスに及ぼす痕跡量H₂Oの影響機構

Influence Mechanisms of Trace H₂O on the Generating Process of SF₆ Spark Discharge Decomposition Components

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資料名：
巻： 37 号： 1 ページ： 325-340 発行年： 2017年01月
JST資料番号： H0836A ISSN： 0272-4324 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

SF₆火花放電分解の実験を,一定電圧下でシミュレーション実験プラットフォームを用いて実施した。針-板電極を使用して,金属隆起の欠陥をシミュレートした。SF₆分解特性を,種々の痕跡量H₂O含水量下で定量的に分析した。本研究は,分解成分分析(DCA)法を用いた,ガス絶縁装置の絶縁欠陥タイプの絶縁状態および同定の評価のための,理論的および実験的標準を提供した。火花分解成分の有効発生速度および特性比率に及ぼす影響機構を決定した。結果から,痕跡量H₂Oが,SOF₂,SOF₄,SO₂F₂,SO₂およびCF₄を含む,SF₆火花分解成分の有効発生速度に著しく影響した。成分に対するH₂Oのはっきりした機構のために,特性比率は変化した。比率とH₂O含有量との間の数学表現も導出した。

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荷電体衝撃・放電による反応 , 気体放電

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SF6火花放電分解成分の発生プロセスに及ぼす痕跡量H2Oの影響機構

SF₆火花放電分解成分の発生プロセスに及ぼす痕跡量H₂Oの影響機構