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J-GLOBAL ID:201702250518156432   整理番号:17A0400031

低エネルギーHeプラズマに曝露したタングステン酸化物薄膜:浸食収率の熱的強化のための証拠【Powered by NICT】

Tungsten oxide thin film exposed to low energy He plasma: Evidence for a thermal enhancement of the erosion yield
著者 (10件):
資料名:
巻: 484  ページ: 91-97  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0148A  ISSN: 0022-3115  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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タングステン基板の熱酸化により作製したナノ結晶酸化タングステン薄膜(厚さ約75nm)は二温度で2.5×10~18m~ 2s~ 1のフラックスとの低エネルギーHeプラズマ(≒20 eV/He)に曝露した:室温及び673KHe衝撃及びアニーリング処理後に発生する構造と形態修飾をRaman分光法と透過型電子顕微鏡を用いて調べた。低フルエンス(4 × 10~21 m~ 2)と低イオンエネルギーのために,室温でHeプラズマ照射後,ごく少数の形態改質を観測した。これに反して,673Kで,層色の変化は重要な侵食に関連する観察された。曝露前/後と焼なまし前後の詳細な分析は,原子とマイクロメータスケールで酸化物層,その侵食および構造的修飾を有するHe相互作用を記述することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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核融合装置  ,  金属の放射線による構造と物性の変化 

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