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J-GLOBAL ID：201702253615686647   整理番号：17A0473514

H_2リッチガス中のCOの選択的メタン化のための塩素ドープ触媒Ni(Clx)/ZrO_2の触媒性能の耐久性【Powered by NICT】

Durability of catalytic performance of the chlorine-doped catalyst Ni(Clx)/ZrO₂ for selective methanation of CO in H₂-rich gas

著者 (4件)： Gao Zhiming (School of Chemistry and Chemical Engineering, Beijing Institute of Technology, Liangxiang East Road, Beijing 102488, China) ,  Wang Linlin (School of Chemistry and Chemical Engineering, Beijing Institute of Technology, Liangxiang East Road, Beijing 102488, China) ,  Ma Hongwei (Analysis and Testing Center, Beijing Institute of Technology, Liangxiang East Road, Beijing 102488, China) ,  Li Zhanping (Analysis Center, Tsinghua University, Beijing 100084, China)
資料名： Applied Catalysis. A: General  (Applied Catalysis. A: General)
巻： 534  ページ： 78-84  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0691C  ISSN： 0926-860X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 塩素ドープ触媒Ni(Clx)/ZrO_2(x=0.0 0.6)はH_2リッチガス(CO SMET)中のCOの選択的メタン化のために調製した。塩素イオンの影響を,X線回折(XRD),温度プログラム還元(TPR)及び吸着測定により調べた。塩素イオンはNi結晶成長を促進し,CO_2吸着を抑制できることが分かった。結果として,COの10ppm以下への深い除去は広い反応温度範囲で50%以上の高い選択性で達成された。また,220°Cの反応温度で,COメタン化の選択性は,触媒Ni(Cl_0 1)/ZrO_2で100hの耐久試験で10ppm以下のCO出口濃度を100%に保たれた。しかし,選択性は240°Cと280°Cの高い反応温度で反応時間と共に減少した。X線蛍光分光法(XRF)分析とイオンクロマトグラフィー分析により,塩素イオンは触媒反応,触媒上での吸着とメタンに水素化がCO_2を可能とするで進化したことを証明した。これは最終的にCOメタン化の選択性の減少をもたらした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *触媒活性 ,  TPR【触媒】 ,  *メタン化 ,  水素化 ,  反応温度 ,  *耐久性 ,  蛍光分光法 ,  *ドーピング ,  耐久試験 ,  イオンクロマトグラフィー ,  *ニッケル ,  *触媒 ,  X線回折 ,  アルカン
準シソーラス用語： 塩素イオン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 選択的メタン化 ,  CO ,  塩素イオンドーピング ,  組成分析

分類 (1件)： 不均一系触媒反応  (CB06100E)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (8件)： リッチガス ,  CO ,  メタン化 ,  塩素 ,  ドープ ,  触媒 ,  Ni ,  触媒性能