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J-GLOBAL ID：201702253873465442   整理番号：17A0173785

H4膜の光学バンドギャップとレーザ損傷特性に及ぼす堆積速度の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influence of deposition rate on the optical bandgap and laser damage properties of H4films

著者 (4件)： Xu Junqi (Shaanxi Province Key Laboratory of Thin Film Technology and Optical Test,Xi’an Technological University) ,  Su Junhong (Shaanxi Province Key Laboratory of Thin Film Technology and Optical Test,Xi’an Technological University) ,  Hang Liangyi (Shaanxi Province Key Laboratory of Thin Film Technology and Optical Test,Xi’an Technological University) ,  Golosov Dmitriy A (Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics)
資料名： Guangdianzi Jiguang  (Guangdianzi Jiguang)
巻： 27  号： 10  ページ： 1054-1059  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2685A  ISSN： 1005-0086  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： H_4薄膜を,電子ビーム蒸着によって石英基板上に調製し,その光学的およびレーザ誘起損傷特性を研究した。薄膜の光学バンドギャップは透射率譜により計算され,光学バンドギャップは堆積速度の低下とともに増加し,その値は4.66~4.73EVであった。結果は,堆積速度が0.92NM/S,0.17NM/S,0.08NM/Sから0.03NM/Sに減少することを示した。膜の屈折率は1.955,2,,からに(1NM)に低下した。すべてのサンプルの消光系は10(-5)よりも優れており,これは薄膜が非常に小さな吸収を示すことを示している。薄膜のレーザ損傷形態とレーザー損傷閾値(LIDT)は堆積速度に影響されず、同じレーザーエネルギーの作用下で、薄膜の損傷斑の大きさはほぼ一致しているが、0.92NM/Sの時に調製した薄膜は、その損傷区域と未損傷区の間に交差現象が存在する。堆積速度が0.03NM/Sから0.92NM/Sに変化したとき,レーザ誘起損傷閾値は16~17J/CM2(1NM,10NS)であった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *レーザ損傷 ,  *堆積速度 ,  屈折率 ,  薄膜 ,  消光 ,  *光学ギャップ ,  電子ビーム蒸着
準シソーラス用語： レーザ損傷閾値 ,  石英基板 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： thin film ,  H_4 ,  optical band gap ,  refractive index ,  laser-induced damage threshold(LIDT)

分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 光学バンドギャップ ,  レーザ損傷 ,  堆積速度 ,  研究