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J-GLOBAL ID：201702253888086879   整理番号：17A0748188

高分子膜ポリマ基板系におけるしわとその表面変形を最小化するための技術【Powered by NICT】

Wrinkling in polymer film-polymer substrate systems and a technique to minimize these surface distortions

著者 (5件)： Prasath Balamurugan G. (MMRI/CAPPA-D, Department of Chemical Engineering, McMaster University, Hamilton, ON, Canada L8S 4L7) ,  Pukadyil Rohan N. (MMRI/CAPPA-D, Department of Chemical Engineering, McMaster University, Hamilton, ON, Canada L8S 4L7) ,  Thompson Michael R. (MMRI/CAPPA-D, Department of Chemical Engineering, McMaster University, Hamilton, ON, Canada L8S 4L7) ,  Nielsen Kent E. (3M Canada Company, London, ON, Canada) ,  Brandys Frank A. (3M Canada Company, London, ON, Canada)
資料名： Polymer Engineering & Science  (Polymer Engineering & Science)
巻： 57  号： 1  ページ： 31-43  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0640A  ISSN： 0032-3888  CODEN： PYESA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 市販多層高分子膜/基板積層材料の熱成形中の熱的に誘起されたしわが報告されている。温度上昇に伴う基板の相転移と結合した成分層の示差熱膨張は,特定の波長と振幅を持つしわのための臨界条件を決定した。成形作業前の高温で試料を延伸二軸によるしわを最小化する効果的な技術を提案した。試料は通常の真空熱成形に補強された特別に設計された発泡装置を用いて試料に注入することで二軸延伸した。この方法は,インフレーション成形,加熱と伸張支援熱成形を提供した。二軸延伸中のしわ試料に貯蔵された圧縮応力は,成形段階の前に軽減し,表面外観を失うことなく装飾部分を生成した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 二軸 ,  昇温 ,  圧縮応力 ,  多層 ,  起泡 ,  相転移 ,  *高分子膜 ,  高温 ,  積層材料 ,  熱膨張 ,  *重合体 ,  延伸 ,  熱成形 ,  インフレーション成形 ,  二軸延伸

分類 (2件)： その他の成形  (YH04090Q) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分子膜 ,  ポリマ ,  しわ ,  表面変形 ,  最小化