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J-GLOBAL ID：201702257101135728   整理番号：17A0071219

二酸化チタン薄膜の光吸収特性に及ぼすガリウムドーピングの影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Ga Doping on Optical Absorption Property of TiO_2 Thin Films

著者 (5件)： Deng Quanrong (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Material,College of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology) ,  Li Yiqi (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Material,College of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology) ,  Chen Lian (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Material,College of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology) ,  Wang Shenggao (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Material,College of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology) ,  Wang Geming (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Material,College of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology)
資料名： Rengong Jingti Xuebao  (Rengong Jingti Xuebao)
巻： 45  号： 8  ページ： 2156-2159  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0398A  ISSN： 1000-985X  CODEN： RJXUEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 1%~15%のGA_2O_3粉末をTIO_2粉末に添加することにより,GAドープTIO_2セラミックターゲットを調製し,パルスレーザ蒸着(PLD)によりTIO_2薄膜を調製した。薄膜を800~1000°Cでアニールした。薄膜の構造と光学的性質の研究によると、1000°Cのアニーリング条件下で1%GA_2O_3のドーピングはルチル相TIO_2のバンドギャップを2.62EVまで減少させ、吸収ピークを470NMに移動させた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ドーピング ,  焼なまし ,  パルスレーザ蒸着 ,  ルチル ,  *光吸収 ,  *薄膜 ,  バンドギャップ ,  粉体 ,  光学的性質
準シソーラス用語： *TiO2フィルム , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： TiO_2 thin film ,  pulsed laser deposition ,  Ga doping ,  visible light absorption

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 二酸化チタン薄膜 ,  光吸収特性 ,  ガリウム ,  ドーピング