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J-GLOBAL ID：201702257163287234   整理番号：17A0783330

電子・光機能性セラミックス薄膜創製のための気相法成長の現状と課題 高速・低温成長への挑戦

著者 (3件)： 山本哲也 (高知工科大 総研) ,  野本淳一 (高知工科大 総研) ,  牧野久雄 (高知工科大 総研)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.3A23  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 気相成長 ,  イオンめっき ,  セラミック被覆 ,  *セラミック膜 ,  *薄膜 ,  製膜 ,  化学蒸着 ,  蒸着膜 ,  エピタクシー ,  スパッタ蒸着
準シソーラス用語： *セラミック薄膜

分類 (2件)： ガラス・セラミック被覆一般  (YC02010D) ,  薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (8件)： 電子 ,  機能性セラミックス ,  薄膜 ,  創製 ,  気相 ,  成長 ,  現状 ,  低温成長