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J-GLOBAL ID：201702261881930898   整理番号：17A0527002

ブロック共重合体薄膜の溶媒蒸気アニーリングによるナノパターン形成

Nanopatterning via Solvent Vapor Annealing of Block Copolymer Thin Films

著者 (8件)： JIN Cong (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  JIN Cong (National Res. Council Canada, Alberta, CAN) ,  OLSEN Brian C. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  OLSEN Brian C. (National Res. Council Canada, Alberta, CAN) ,  LUBER Erik J. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  LUBER Erik J. (National Res. Council Canada, Alberta, CAN) ,  BURIAK Jillian M. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  BURIAK Jillian M. (National Res. Council Canada, Alberta, CAN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 29  号： 1  ページ： 176-188  発行年： 2017年01月10日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ブロック共重合体の自己組織化によるナノパターン形成は,次世代のサブ20nmリソグラフィーとして期待されている。高いχ(Flory-Higginsパラメータ)値あるいは高分子量のブロック共重合体については高温長時間熱処理が必要である。そこで主に溶媒蒸気アニーリングについて紹介した。この方法では溶媒蒸気と接するブロックが溶媒と類似のHildebran溶解度を持つていると,溶媒を吸収し膨潤し,ガラス転移温度が低下し,塑性化し移動度が高くなり,相分離などによりナノパターンを形成する。また非平衡準安定相が得られ易い。この方法の歴史とフィードパック制御し易い溶媒蒸気流アニーリングシステムを詳細に説明した。ポリスチレン-block-ポリブタジエン-block-ポリスチレンのトリブロック共重合体についてすれすれ入射小角X線散乱と偏光解析法による解析結果を示した。また膨潤度の制御とSEM顕微鏡観察法をポリスチレン-block-ポリジメチルシロキサンについて説明した。

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *自己組織化 ,  *パターン形成 ,  *熱処理 ,  トリブロック共重合体 ,  偏光解析法 ,  ガラス転移点 ,  走査電子顕微鏡 ,  ポリスチレン ,  ポリジメチルシロキサン ,  小角X線散乱 ,  *膨潤 ,  *ブロック共重合体 ,  斜入射小角X線散乱
準シソーラス用語： SEM【顕微鏡】 ,  ガラス転移温度 ,  すれすれ入射小角X線散乱 ,  ナノパターン形成 ,  *溶媒蒸気アニーリング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  溶媒蒸気 ,  アニーリング ,  ナノパターン形成