文献

J-GLOBAL ID：201702267665138078   整理番号：17A0698055

UV/iodideプロセスによるN ニトロソジメチルアミンの効率的光還元分解【Powered by NICT】

Efficient photoreductive decomposition of N-nitrosodimethylamine by UV/iodide process

著者 (5件)： Sun Zhuyu (State Key Laboratory of Pollution Control and Resources Reuse, College of Environmental Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China) ,  Zhang Chaojie (State Key Laboratory of Pollution Control and Resources Reuse, College of Environmental Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China) ,  Zhao Xiaoyun (State Key Laboratory of Pollution Control and Resources Reuse, College of Environmental Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China) ,  Chen Jing (State Key Laboratory of Pollution Control and Resources Reuse, College of Environmental Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China) ,  Zhou Qi (State Key Laboratory of Pollution Control and Resources Reuse, College of Environmental Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China)
資料名： Journal of Hazardous Materials  (Journal of Hazardous Materials)
巻： 329  ページ： 185-192  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0362A  ISSN： 0304-3894  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N ニトロソジメチルアミン(NDMA)は水源におけるその高い毒性と高濃度レベルに起因する消毒副産物として広範な関心を呼んでいる。UV/iodideプロセスによるNDMAの光還元的分解を調べた。結果は,このプロセスが10分以内に除去99.2%NDMAによるNDMAの治療のための効果的な戦略であることを示した。UV/iodideプロセスによるNDMAの枯渇は,0.60±0.03分~ 1の速度定数(k_1)の擬一次反応速度論に従った。ヨウ化物のUV照射により生成した水和電子(e_aq~ )は重要な役割を果たしていることが証明された。ジメチルアミン(DMA)と亜硝酸塩(NO_2~ )が主要な中間生成物,ギ酸塩(HCOO~ ),アンモニウム(NH_4~+)および窒素(N_2)に完全に変換として形成された。だけでなく,NDMA破壊における高効率が,毒性中間体の除去はUV/iodide過程を有利にする。光還元機構を提案した:NDMAは最初に光励起状態に光子を吸収し,e_aq~ の攻撃下のNNO結合の開裂を受けた。溶液pHはNDMA除去にほとんど影響しなかった。しかし,アルカリ性条件がDMAとNO_2~ の除去には好都合であった,二次汚染を効果的に減少させる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光ポンピング ,  アンモニウムイオン ,  ヨウ化物 ,  *光還元 ,  光子 ,  亜硝酸塩 ,  紫外線照射 ,  反応中間体 ,  中間体 ,  水和電子 ,  毒性 ,  脂肪族アミン ,  第二アミン
準シソーラス用語： 一次反応速度論 ,  速度定数 ,  消毒副生成物 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： N ニトロソジメチルアミン ,  光還元 ,  水和電子 ,  機構 ,  pHの影響

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  用水の化学的処理  (SC02040E)

物質索引 (1件)： ジメチルアミン

タイトルに関連する用語 (4件)： プロセス ,  ニトロソジメチルアミン ,  光還元 ,  分解