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J-GLOBAL ID：201702268224649082   整理番号：17A0642093

分子モデリング計算によるフィロシリケート表面上のスルホンアミドの吸着

Adsorption of Sulfonamides on Phyllosilicate Surfaces by Molecular Modeling Calculations

著者 (3件)： FRANCISCO-MARQUEZ Misaela (Instituto Politecnico Nacional, Mexico City, MEX) ,  SORIANO-CORREA Catalina (Universidad Nacional Autonoma de Mexico, Mexico City, MEX) ,  SAINZ-DIAZ C. Ignacio (Universidad de Granada, Granada, ESP)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 5  ページ： 2905-2914  発行年： 2017年02月09日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スルホンアミドのスルファメトキシピリダジンS1とスルファメトキシジアジンS2を,量子力学計算と経験的原子間ポテンシャル計算に基づく力場を用いて調べた。S2のバイオ活性はS1より2倍高い。原子計算によりこれらのスルホンアミドとフィロシリケート鉱物の表面の間の分子間相互作用を調べた。

シソーラス用語： *フィロ珪酸塩鉱物 ,  *スルホンアミド ,  *吸着 ,  *モデリング ,  *分子構造 ,  原子間ポテンシャル ,  力の場 ,  分子間相互作用 ,  サルファ剤 ,  残留物 ,  エーテル ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  第一アミン
準シソーラス用語： *分子モデリング ,  残留薬物

分類 (1件)： 吸着の電子論  (CB12042Y)

物質索引 (2件)： スルファメトキシピリダジン ,  スルファメトキシジアジン

タイトルに関連する用語 (4件)： 分子モデリング ,  計算 ,  スルホンアミド ,  吸着