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J-GLOBAL ID:201702268499131488   整理番号:17A0696907

還元を制御することによるグラフェン酸化物のフリーラジカル含量の最適化【Powered by NICT】

Optimizing the free radical content of graphene oxide by controlling its reduction
著者 (6件):
資料名:
巻: 116  ページ: 703-712  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0270B  ISSN: 0008-6223  CODEN: CRBNA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ラジカルはグラフェン面上のエッジと欠陥サイトで形成することができる。しかし,グラフェンのラジカル含量は実用的に有用であるにはあまりにも低かった。本研究では,グラフェンのラジカル含量は酸化および還元処理によって簡単に増強し,最適化できるかを示した。グラフェン酸化物ナノシートはグラファイトの酸化によって生成されると熱的,化学的および光還元を含む異なる還元法を用いてナノシートに及ぼす還元とフリーラジカル形成の異なる程度を得ることである。ラジカルの反応性と有用性を,アクリル酸ブチルの表面およびバルク重合について実証した。従来の開始剤,過硫酸アンモニウムと比較して,グラフェンラジカルを用いた場合重合速度は遅いが,より高い重合収率を達成できた。さらに,グラフェンラジカルの高い安定性は,ラジカル重合停止,通常のラジカル開始剤の効率を制限する一般的な問題を避けるのに役立つ。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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炭素とその化合物 
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