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J-GLOBAL ID：201702268929702911   整理番号：17A0855241

強磁場中のセリウムドープしたルテチウムオキシオルトけい酸塩セラミックの結晶粒配向制御【Powered by NICT】

Grain orientation control of cerium doped lutetium oxyorthosilicate ceramics in a strong magnetic field

著者 (13件)： Fan Lingcong (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China) ,  Fan Lingcong (Kazuo Inamori School of Engineering, New York State College of Ceramics, Alfred University, Alfred 14802, NY, United States) ,  Jiang Menghan (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China) ,  Lin Debao (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China) ,  Shi Ying (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China) ,  Wu Yiquan (Kazuo Inamori School of Engineering, New York State College of Ceramics, Alfred University, Alfred 14802, NY, United States) ,  Pi Li (High Magnetic Field Laboratory, Chinese Academy of Sciences and University of Science and Technology of China, Hefei 230031, China) ,  Fang Jun (High Magnetic Field Laboratory, Chinese Academy of Sciences and University of Science and Technology of China, Hefei 230031, China) ,  Xie Jianjun (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China) ,  Lei Fang (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China) ,  Zhang Lei (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China) ,  Zhong Yunbo (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China) ,  Zhang Jieyu (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 198  ページ： 85-88  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： セリウムドープルテチウムオキソオルトけい酸塩(LSO:Ce)シンチレータセラミックは,150MPa圧力下で1650°Cで9T垂直磁場におけるスリップキャスティング法で製造し,続いて熱間静水圧プレス(HIP)であった。XRDと電子後方散乱回折(EBSD)マッピングの結果は,LSO:Ceセラミックの結晶粒は[4 02]結晶学的方向に沿って整列していることを明らかにした。セラミックスのテクスチャリング(Lotgering因子,f)の程度は0.28であると決定した。測定は集合組織化したLSO:Ceセラミックのインライン透過率を明らかにした非組織化セラミックスのそれの4.7倍であることを,420nm(発光極大)で6.6%の透過率を達成した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： テキスチャード加工 ,  *結晶粒 ,  X線回折 ,  *強磁場 ,  集合組織 ,  *ケイ酸塩 ,  透過率 ,  結晶学 ,  *セラミック ,  発光 ,  HIP【ホットプレス】 ,  垂直磁場 ,  *配向制御
準シソーラス用語： テクスチャ ,  EBSD , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ルテチウムオキシオルトけい酸塩 ,  テクスチャ ,  強磁場 ,  光学的性質

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 強磁場 ,  セリウム ,  ドープ ,  けい酸塩 ,  セラミック ,  結晶粒 ,  配向制御