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J-GLOBAL ID：201702268946641151   整理番号：17A0762934

高規則下SAM形成のための結合基 カルボキシル基対チオール

Binding groups for highly ordered SAM formation: carboxylic versus thiol

著者 (4件)： Krzykawska A. (Smoluchowski Institute of Physics, Jagiellonian University, Lojasiewicza 11, 30-348 Krakow, Poland. [e-mail]) ,  Ossowski J. ,  Zaba T. ,  Cyganik P.
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 53  号： 42  ページ： 5748-5751  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ag基板上に-SHまたは-COOH結合基を介して化学収着した類似のSAMの構造について報告した。筆者らの観測から,COOH結合基が,硫黄結合基を用いた現在の標準法の有望な代替と考えられることがわかった。特に2D規則化においては,大気条件下でのSAM調製時間と安定性が非常に重要であった。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *化学吸着 ,  *カルボキシ基 ,  チオール ,  *単分子層 ,  銀 ,  電子顕微鏡観察 ,  表面構造
準シソーラス用語： 官能基 ,  *自己集合単分子層

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

物質索引 (1件)： 3-(ビフェニル-4-イル)プロパン酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 規則 ,  SAM ,  結合基 ,  カルボキシル基 ,  チオール