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J-GLOBAL ID：201702269096880958   整理番号：17A0107313

カドミウムストレスが光合成および光合成関連パラメータに及ぼす影響を調べた。【JST・京大機械翻訳】

Effects of cadmium stress on growth and photosynthetic parameters of Sigesbeckia orientalis L

著者 (6件)： Xu Xiaoxun (College of Environmental Sciences, Sichuan Agricultural University) ,  Dong Yuanyuan (College of Environmental Sciences, Sichuan Agricultural University) ,  Deng Yulan (College of Environmental Sciences, Sichuan Agricultural University) ,  Huo Qinglin (College of Environmental Sciences, Sichuan Agricultural University) ,  Zhang Shirong (College of Environmental Sciences, Sichuan Agricultural University) ,  Pu Yulin (College of Environmental Sciences, Sichuan Agricultural University)
資料名： Nongye Huanjing Kexue Xuebao  (Nongye Huanjing Kexue Xuebao)
巻： 35  号： 9  ページ： 1672-1679  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2714A  ISSN： 1672-2043  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： カドミウム(CD)に対する超(ORIENTALIS ORIENTALIS L.)の耐性機構を明らかにするために,CDストレス下でのXiXian 成長 L.の成長と光合成に関連するパラメータの変化を研究した。結果は,CD濃度が10MG KG(-1)であるとき,XiXianの成長と光合成色素は対照と比較して有意差がないことを示し(P>0.05),XiXianは低濃度のCD処理の下で強い成長適応性を持っていることを示した。高濃度のCDストレスは,クロロフィルA/クロロフィルB比を維持することができ,CDの耐性を促進することができた。CDストレスは葉の正味光合成速度(PN),気孔コンダクタンス(GS),蒸散率(TR)および気孔制限値(LS)を徐々に減少させたが,細胞間二酸化炭素濃度(CI)はCD濃度の増加とともに増加した。XiXianの光合成速度の低下は非気孔制限因子によるものであることが示唆された。葉の最大光化学量子収量(FV/FM),電子移動の量子収率(ΦPSII),光電子移動速度(ETR)および光化学的消光係数(QP)は,CD濃度の増加とともに減少した。しかし,非光化学的消光係数(NPQ)は,最初に増加し,次に減少し,そして,光合成機構は,CDストレスに対して一定の耐性を持った。これらの結果は,クロロフィルA/クロロフィルB,FV/FM比およびNPQ値の変化が,CDの光合成適応性に関係し,CD耐性において一定の役割を果たすことを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 気孔抵抗 ,  適応性 ,  蒸散 ,  光化学 ,  気孔 ,  量子収量 ,  *光合成 ,  電子移動
準シソーラス用語： 非光化学的消光 ,  消光係数 ,  二酸化炭素濃度 ,  光合成速度 ,  高濃度 ,  光合成色素 ,  耐性機構 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Sigesbeckia orientalis L. ,  cadmium stress ,  chlorophyll contents ,  gas exchange parameters ,  chlorophyll fluorescence parameters

分類 (2件)： 植物に対する影響  (EE05030G) ,  カドミウムとその化合物  (SB05022I)

タイトルに関連する用語 (4件)： カドミウム ,  ストレス ,  光合成 ,  パラメータ