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J-GLOBAL ID：201702280161597743   整理番号：17A0031934

コロイドテンプレートによる熱絶縁性グラフェン膜の同時窒素ドーピングと空孔の生成

Simultaneous Nitrogen Doping and Pore Generation in Thermo-Insulating Graphene Films via Colloidal Templating

著者 (6件)： BARK Hyunwoo (Kookmin Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Jeongmin (Kookmin Univ., Seoul, KOR) ,  LIM Hosun (Korea Electronics Technol. Inst., Gyeonggido, KOR) ,  KOO Hye Young (Korea Inst. of Sci. and Technol., Jeollabuk-do, KOR) ,  LEE Wonmok (Sejong Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Hyunjung (Kookmin Univ., Seoul, KOR)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 8  号： 46  ページ： 31617-31624  発行年： 2016年11月23日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱電材料に関して二つの問題がある。一つは無機材料の機械的強度に関する問題であり,他は低熱伝導率(k)と高電気伝導率(σ)を同時に得ることに関する問題である。この無機材料の問題を解決するために,代替材料としてのナノカーボン材料と導電性ポリマー複合材料が研究されてきた。本研究では,エマルジョン重合を使用して窒素リッチポリスチレン(N-PS)粒子を合成し,同時窒素ドーピングを使用し,N-PS粒子と酸化グラフェン(GO)の複合材料を熱アニールすることにより熱還元酸化グラフェン(TrGO)多孔質構造を形成し,TrGOを高効率の熱電材料として研究した。具体的には窒素ドーピングと多孔質構造がTrGOの多孔質構造の特性に及ぼす影響を研究した。この中で結晶粒界を制御し,または多孔性を導入することにより,導電率を大きく保ちながら,電子熱伝導率K_eをそのままにして,格子振動熱伝導率K_Lを小さくすることにより,全体の熱伝導率を小さくすることができた。

シソーラス用語： コロイド ,  性質 ,  *グラフェン ,  *ドーピング ,  *空格子点 ,  *熱電材料 ,  無機材料 ,  熱伝導率 ,  電気伝導率 ,  クラスタ分子 ,  ナノ構造 ,  導電性高分子 ,  *ポリスチレン ,  *粒状材 ,  還元 ,  熱化学反応 ,  *酸化物 ,  走査電子顕微鏡 ,  X線光電子分光法 ,  *鋳型反応 ,  窒素 ,  熱処理 ,  多孔性
準シソーラス用語： ナノカーボン ,  ポリスチレンビーズ ,  *還元型グラフェン酸化物 ,  酸化グラフェン ,  多孔質構造 ,  窒素ドーピング ,  熱還元 ,  熱絶縁性

分類 (3件)： 熱電デバイス  (NC03090J) ,  半導体の格子欠陥  (BK12040Q) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (6件)： コロイド ,  テンプレート ,  熱絶縁性 ,  グラフェン膜 ,  窒素ドーピング ,  空孔