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J-GLOBAL ID：201702280413676457   整理番号：17A0497642

フルオロオキソホウ酸塩:層状成長を伴わないベリリウムを含まない深紫外非線形光学材料

Fluorooxoborates: Beryllium-Free Deep-Ultraviolet Nonlinear Optical Materials without Layered Growth

著者 (6件)： Zhang Bingbing (Key Laboratory of Functional, Materials and Devices for Special Environments of CAS, Xinjiang Key Laboratory of Electronic Information Materials and Devices, Xinjiang Technical Institute of Physics & Chemistry of CAS, 40-1 South Beijing Road, Urumqi, 830011, China) ,  Shi Guoqiang (Key Laboratory of Functional, Materials and Devices for Special Environments of CAS, Xinjiang Key Laboratory of Electronic Information Materials and Devices, Xinjiang Technical Institute of Physics & Chemistry of CAS, 40-1 South Beijing Road, Urumqi, 830011, China) ,  Shi Guoqiang (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, China) ,  Yang Zhihua (Key Laboratory of Functional, Materials and Devices for Special Environments of CAS, Xinjiang Key Laboratory of Electronic Information Materials and Devices, Xinjiang Technical Institute of Physics & Chemistry of CAS, 40-1 South Beijing Road, Urumqi, 830011, China) ,  Zhang Fangfang (Key Laboratory of Functional, Materials and Devices for Special Environments of CAS, Xinjiang Key Laboratory of Electronic Information Materials and Devices, Xinjiang Technical Institute of Physics & Chemistry of CAS, 40-1 South Beijing Road, Urumqi, 830011, China) ,  Pan Shilie (Key Laboratory of Functional, Materials and Devices for Special Environments of CAS, Xinjiang Key Laboratory of Electronic Information Materials and Devices, Xinjiang Technical Institute of Physics & Chemistry of CAS, 40-1 South Beijing Road, Urumqi, 830011, China)
資料名： Angewandte Chemie. International Edition  (Angewandte Chemie. International Edition)
巻： 56  号： 14  ページ： 3916-3919  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0127B  ISSN： 1433-7851  CODEN： ACIEAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 深紫外非線形光学(DUV NLO)結晶は,固体レーザの出力範囲を200nm以下に拡張するための重要な材料である。唯一実用的な材料であるKBe₂BO₃F₂は,ベリリウムと強力な層状成長によって高い毒性を被る。本稿では,DUV NLO材料のためのベリリウムを含まない材料設計および合成戦略を提案する。ホウ酸塩に(BO₃F)^4-,(BO₂F₂)^3-および(BOF₃)^2-基を導入することによって,層状化することなくより大きな複屈折を生成する固定化された3D B-Oネットワークを破壊すると同時に,短絡カットエッジをDUVまで下げることができる。一連のフルオロオキソホウ酸塩に関する理論的および実験的研究により,この戦略を確認する。Li₂B₆O₉F₂は大きな第二高調波発生効率(0.9×KDP)と層状化なしに大きな予測複屈折(0.07)を有するDUV NLO材料として同定する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *フルオロホウ酸塩 ,  *紫外線 ,  *非線形光学材料 ,  複屈折 ,  リチウム化合物 ,  第二高調波発生 ,  層状組織
準シソーラス用語： *深紫外

著者キーワード (5件)： boron ,  deep-ultraviolet ,  fluorooxoborates ,  nonlinear optical materials ,  second harmonic generation

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸 ,  塩 ,  ベリリウム ,  深紫外 ,  非線形光学材料