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J-GLOBAL ID:201702280639046157   整理番号:17A0792198

0排水脱塩のための高度に安定な疎水性SiNCOナノ粒子修飾窒化けい素膜【Powered by NICT】

Highly stable hydrophobic SiNCO nanoparticle-modified silicon nitride membrane for zero-discharge water desalination
著者 (8件):
資料名:
巻: 63  号:ページ: 1272-1277  発行年: 2017年 
JST資料番号: A0337A  ISSN: 0001-1541  CODEN: AICEA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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膜蒸留淡水化逆浸透よりも有意に高い水の回収率を達成できるが,安定な疎水性膜の欠如は,その商業的応用を制限している。は小胞SiNCOナノ粒子を有する多孔質Si_3N_4基板を改変することにより,新奇な疎水性膜の調製を提示した。膜は142°の水接触角を有し,-Si CH_3末端基と高い表面粗さの存在に起因する。接触角は沸騰水,2~12の範囲のpHの水溶液,及びベンゼンへの膜の曝露後にほぼ同じであった。膜は高濃度NaCl溶液と模擬海水に満足すべき水脱塩性能を示した。非常に安定な膜を用い,工業的利用のための日常使用とブラインのための淡水の同時生産のための零排水脱塩プロセスを開発するために有望である。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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膜分離 

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