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J-GLOBAL ID:201702280726551865   整理番号:17A0504475

ゾルゲルZnO薄膜の構造,伝導度型,光学特性に与えるNaドーピングの効果

Na doping effects on the structural, conduction type and optical properties of sol-gel ZnO thin films
著者 (9件):
資料名:
巻: 28  号:ページ: 1546-1554  発行年: 2017年01月 
JST資料番号: W0003A  ISSN: 0957-4522  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ZnOをデバイスに使うにはp型ZnOが必要である。p型ZnO制作にはいろいろな方法があるが,ゾルゲル法がコストや組成制御のし易さから有利である。NaドープZnOを石英基板上にゾルゲル法で製作し,Naドーピング濃度(0,3,6,9at%)が構造,モルフォロジ,電気的光学的性質に与える効果を調べた。制作した膜はc軸方向でZnOの六方晶ウルツ鉱構造をしている。平均粒径と表面粗さはNa濃度につれて最初は増加しその後減少する。キャリヤタイプはNa濃度に依存し,3at%の時だけp型伝導になり,正孔濃度,Hall移動度,電気抵抗はそれぞれ4.9×1016cm-3,0.15cm2V-1s-1,826.47Ωcmである。すべてのZnO膜の可視光透過率は高く,77から81%である。ドーピング濃度を上げると光学吸収端の変化は赤方偏移から青方偏移へ変化する。Naドーピング濃度でPL発光強度が影響され,UV発光は0%が最も強く3at%のp型ZnOが最も弱かった。
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分類 (2件):
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固体デバイス材料  ,  酸化物薄膜 
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