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J-GLOBAL ID:201702280750465903   整理番号:17A0057892

+1.5Vの1.7mmとしきい値電圧の記録ドレイン電流密度を有するエンハンスメントモードAl_2O_3/InAlGaN/GaN MOS-HEMT【Powered by NICT】

Enhancement-mode Al2O3/InAlGaN/GaN MOS-HEMTs with a record drain current density of 1.7 A/mm and a threshold voltage of +1.5 V
著者 (5件):
資料名:
巻: 2016  号: SSLChina: IFWS  ページ: 64-67  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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四元InAlGaN障壁に基づく高性能エンハンスメントモードMOS-HEMTについて報告した。自己整合ゲート技術ではゲートリセス構造,誘電体堆積とゲート電極形成プロセスに使用される,改良されたディジタルリセスプロセスとO2プラズマ支援Al_2O_3ゲート誘電体を開発した。作製したEモードMOS-HEMTは,1.5Vのしきい値電圧(V_TH)と1.7mmの記録出力電流密度,及び2.0Q mmの小さなオン抵抗(R_on)を示した。優れたV_THヒステリシスと大きく改良されたゲート漏れ電流特性も示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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トランジスタ  ,  半導体集積回路 

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