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J-GLOBAL ID：201702280784138711   整理番号：17A0086757

高度フォトマスクにおける空中像計測における分析技術の比較

Comparison of analysis techniques for aerial image metrology on advanced photomask

著者 (8件)： HWANG Seolchong ,  WOO Sungha ,  JANG Heeyeon ,  LEE Youngmo ,  KIM Sangpyo ,  YANG Hyunjo (SK hynix Inc., Chungcheongbuk-do, KOR) ,  SCHULZ Kristian (Carl Zeiss SMT, Jena, DEU) ,  GARETTO Anthony (Carl Zeiss SMT, Jena, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9984  ページ： 998409.1-998409.7  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォトマスクの欠陥検査の標準的な方法として,空中像計測法が利用されている。空中像計測には,イメージングプラットフォームを利用する。空中像を基準空中像と比較することで,欠陥領域または修復領域のCD(クリティカルディメンション)偏差やパターンシフトが計算される。空中像の計測精度を高めるために,分析技術について検討した。スキャナの照明条件を変えて,欠陥または修復された領域の計測性能を調べた。オペレータのスキルレベルに依存しない空中像分析法を検討した。マスク製造プロセス全体の流れを考慮して,空中像の完全自動分析法を開発した。従来の手法と比較して,初期性能を解析し,実稼働環境に適する方法を示した。コンタクトホール,ラインアンドスペース,周辺構造などのパターンタイプにおいて,欠陥CDを評価した。また,異なるパターンおよび照明条件において,欠陥分析結果を関連づけた。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *フォトマスク ,  画像 ,  *光学的測定 ,  *画像分析 ,  長さ ,  回路パターン形成 ,  微細加工 ,  コンタクトホール ,  生産工程 ,  走査装置 ,  照明条件 ,  自動分析 ,  *欠陥検査
準シソーラス用語： *クリティカルディメンジョン ,  空中像

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高度 ,  フォトマスク ,  空中像 ,  計測 ,  分析