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J-GLOBAL ID：201702282088162215   整理番号：17A0366085

ゾル-ゲル法による分散非晶質SiO_2ナノ粒子の合成【Powered by NICT】

Synthesis of disperse amorphous SiO₂ nanoparticles via sol-gel process

著者 (7件)： Guo Qian (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Huang Danchun (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Kou Xinli (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Cao Wenbin (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Li Lu (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Ge Lin (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Li Jiangong (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 43  号： 1 PA  ページ： 192-196  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 分散非晶質SiO_2ナノ粒子はSiO_2ナノガラスの調製に必須である。本研究では,狭い粒度分布を持つ分散微細非晶質SiO_2ナノ粒子をゾル-ゲル法とそれに続くか焼によって合成した。合成では,ポリエチレングリコール1000(PEG 1000)を,触媒として界面活性剤,ケイ素源としてオルトケイ酸テトラエチル(TEOS),およびアンモニアとして使用した。非晶質SiO_2ナノ粒子の大きさと形態はPEG-1000の量を調節することによって調整した。第0.1世代PEG1000では,それらの殆どが凝集と形状におけるcatenulate35nmの平均サイズを有する大きなSiO_2ナノ粒子を作製した。0.05及び0.0125gで,ほぼ弱く凝集した分散,形状が不規則な平均サイズ18nmのSiO_2ナノ粒子が得られた。第0.025世代PEG1000の最適条件下で,800°Cで10h焼成後,調製したSiO_2ナノ粒子は凝集することなく分散完全に微細,及び形状の等軸で平均粒径9nmの,4 18nmのサイズ分布を持っていた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ゲル ,  触媒 ,  最適条件 ,  界面活性剤 ,  粒度分布 ,  *ゾル-ゲル法 ,  か焼 ,  アンモニア ,  *ナノ粒子
準シソーラス用語： サイズ分布 ,  平均粒子径 ,  オルトケイ酸 ,  ナノガラス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： A.ゾル-ゲル過程 ,  Aか焼 ,  D SiO_2 ,  Nanoparticles

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (2件)： ゾル-ゲル法 ,  ナノ粒子