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J-GLOBAL ID：201702282234329222   整理番号：17A0469077

2光子酸化グラフェンの化学組成【Powered by NICT】

Chemical composition of two-photon oxidized graphene

著者 (11件)： Johansson Andreas (Nanoscience Center, Department of Chemistry, P.O. Box 35, FI-40014, University of Jyvaeskylae, Finland) ,  Johansson Andreas (Nanoscience Center, Department of Physics, P.O. Box 35, FI-40014, University of Jyvaeskylae, Finland) ,  Tsai Hung-Chieh (Department of Physics, National Central University, Jungli, 32054, Taiwan, Republic of China) ,  Aumanen Jukka (Nanoscience Center, Department of Chemistry, P.O. Box 35, FI-40014, University of Jyvaeskylae, Finland) ,  Koivistoinen Juha (Nanoscience Center, Department of Chemistry, P.O. Box 35, FI-40014, University of Jyvaeskylae, Finland) ,  Myllyperkio Pasi (Nanoscience Center, Department of Chemistry, P.O. Box 35, FI-40014, University of Jyvaeskylae, Finland) ,  Hung Yi-Zhe (Department of Physics, National Central University, Jungli, 32054, Taiwan, Republic of China) ,  Chuang Min-Chiang (Department of Physics, National Central University, Jungli, 32054, Taiwan, Republic of China) ,  Chen Chia-Hao (National Synchrotron Radiation Research Center, Hsinchu, 30076, Taiwan, Republic of China) ,  Woon Wei Yen (Department of Physics, National Central University, Jungli, 32054, Taiwan, Republic of China) ,  Pettersson Mika (Nanoscience Center, Department of Chemistry, P.O. Box 35, FI-40014, University of Jyvaeskylae, Finland)
資料名： Carbon  (Carbon)
巻： 115  ページ： 77-82  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二光子酸化された単層グラフェンの化学組成はマイクロメータX線光電子分光法(XPS)によって研究した。サイズ2×2μm~2の酸化領域を空気雰囲気下で強く集束したフェムト秒パルス照射によるグラフェン上にパターン形成した。酸化の程度は照射時間を変化させることによって制御される。試料は四波混合(FWM)イメージングとRaman分光法/イメージングにより評価した。マイクロメータXPSは酸化された領域の局所的化学組成を研究するために使用される。XPSイメージングを酸化および酸化しない領域間の良好なコントラストを示した。漸進的酸化は主にカルボキシル基の寄与は小さいとヒドロキシル(COH)とエポキシド(COC)基に起因する信号の成長から観察された。高度に酸化された領域は水酸基とエポキシ基における~25%に関与する炭素原子の~40%によって特性化した。酸化グラフェンのRamanピークはグラフェン酸化物の典型的に観察されるよりも比較的狭い無秩序より少ない材料を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *酸化 ,  コントラスト ,  *グラフェン ,  キャラクタリゼーション ,  画像処理 ,  マイクロメータ ,  パターン形成 ,  *化学組成 ,  Raman分光法 ,  X線光電子分光法 ,  カルボキシ基 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： カルボキシル基 ,  ヒドロキシル基 ,  照射時間 ,  単層グラフェン ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 2光子 ,  酸化グラフェン ,  化学組成