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J-GLOBAL ID：201702285799438614   整理番号：17A0250285

GI-SAXS法によるブロックコポリマー/ホモポリマー混合系薄膜の構造解析

著者 (5件)： 竹中幹人 (京都大学大学院工学研究科高分子化学専攻) ,  竹中幹人 (理化学研究所放射光科学総合研究センター) ,  WANG Yi-Chin (京都大学大学院工学研究科高分子化学専攻) ,  WANG Yi-Chin (理化学研究所放射光科学総合研究センター) ,  引間孝明 (理化学研究所放射光科学総合研究センター)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 74  号： 1  ページ： 49-53(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリスチレンポリメタクリル酸メチルジブロックコポリマー(PS-b-PMMA)薄膜中でのモルフォロジーに対する少量のホモポリマー添加効果をgrazing-incidence small angle X-ray scatteringにより調べた.作成した混合系はブロックコポリマー単体と同様に基板に垂直に配向したラメラ構造を自己組織化したが,混合系の長距離秩序が悪化していることが散乱関数の解析の結果わかった.(著者抄録)

シソーラス用語： *小角X線散乱 ,  *すれすれ入射 ,  ポリスチレン ,  ポリメタクリル酸メチル ,  *ジブロック共重合体 ,  混合物 ,  ポリマブレンド ,  ミクロ相分離 ,  ラメラ ,  散乱関数 ,  自己組織化 ,  モルフォロジー ,  流延成形 ,  スピンコーティング ,  パラ結晶 ,  X線構造解析 ,  分子構造
準シソーラス用語： *GISAXS ,  パラクリスタル

著者キーワード (5件)： Microphase Separation ,  Blockcopolymer Blends ,  GI-SAXS ,  Paracrystal Theory ,  Hosemann Plot

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物・錯体のX線スペクトル(分子)  (BH06052X) ,  その他の物理分析  (CC03014E)

引用文献 (11件)：

• 1) “ブロック共重合体の自己組織化技術の基礎と応用”, 竹中幹人, 長谷川博一監修, シーエムシー出版, 東京 (2013).
• 2) “Nanolithography: The Art of Fabricating Nanoelectronic and Nanophotonic Devices and Systems (Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials)”, 1st edition, M. Feldman ed., Woodhead Publishing (2013).
• 3) S. O. Kim, H. H. Solak, M. P. Stoykovich, N. J. Ferrier, J. J. dePablo, and P. F. Nealey, Nature, 424, 411 (2003).
• 4) E. W. Edwards, M. P. Stoykovich, H. H. Solak, and P. F. Nealey, Macromolecules, 39, 3598 (2006).
• 5) R. Ruiz, H. Kang, F. A. Detcheverry, E. Dobisz, D. S. Kercher, T. R. Alberecht, J. J. de Pablo, and P. F. Nealey, Science, 321, 936 (2008).

タイトルに関連する用語 (6件)： GI-SAXS ,  ブロックコポリマー ,  ホモポリマー ,  混合系 ,  薄膜 ,  構造解析