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J-GLOBAL ID：201702286765804361   整理番号：17A0375953

N,N-ビス(2-ヒドロキシプロピル)ラウリルアミンの合成と石英への浮選【Powered by NICT】

Synthesis of N,N-Bis(2-hydroxypropyl)laurylamine and its flotation on quartz

著者 (6件)： Liu Wenbao (School of Resources and Civil Engineering, Northeastern University, Shenyang 110819, China) ,  Liu Wengang (School of Resources and Civil Engineering, Northeastern University, Shenyang 110819, China) ,  Wei Dezhou (School of Resources and Civil Engineering, Northeastern University, Shenyang 110819, China) ,  Li Mingyang (School of Resources and Civil Engineering, Northeastern University, Shenyang 110819, China) ,  Zhao Qiang (School of Resources and Civil Engineering, Northeastern University, Shenyang 110819, China) ,  Xu Shucong (School of Material Science & Engineering, Shandong University, Jinan 250061, China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 309  ページ： 63-69  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新規界面活性剤N,N-ビス(2-ヒドロキシプロピル)ラウリルアミン(NHPA)を合成し,石英の浮選における捕収剤として利用した。NHPAの特性を調べた。石英表面上のNHPAの吸着挙動をFT-IRスペクトル研究,ゼータ電位測定およびXPS分析により調べた。浮選実験は,浮選性能を調べた,石英基板上にNHPAの吸着挙動を検証した。FT-IRスペクトルおよびゼータ電位測定の結果は,NHPAと石英表面間の吸着は静電力と水素結合力,さらにXPS分析によって確認されたを通していたことを示した。浮選結果はNHPAは4.50 7.00のpH範囲,ゼータ電位測定を確認した上で石英上に優れた浮遊性と選択性を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 吸着 ,  *浮遊選鉱 ,  浮遊 ,  スペクトル ,  界面活性剤 ,  静電相互作用 ,  ζ電位 ,  捕収剤 ,  X線光電子分光法 ,  *石英 ,  水素結合
準シソーラス用語： 静電気力 ,  石英基板 ,  スペクトル研究 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： NN-ビス(2-ヒドロキシプロピル)ラウリルアミン ,  石英 ,  静電相互作用 ,  XPS ,  浮選

分類 (2件)： 吸着,イオン交換  (XD02060I) ,  吸着剤  (YB03000W)

タイトルに関連する用語 (4件)： ビス ,  ラウリルアミン ,  石英 ,  浮選