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J-GLOBAL ID：201702287402275538   整理番号：17A0445439

拡散焼なましプロセス中のほう化物層の進化【Powered by NICT】

Evolution of boride layers during a diffusion annealing process

著者 (8件)： Campos-Silva I. (Instituto Politecnico Nacional, Grupo Ingenieria de Superficies, SEPI-ESIME, U.P. Adolfo Lopez Mateos, Zacatenco, Mexico D.F. 07738, Mexico) ,  Flores-Jimenez M. (Instituto Politecnico Nacional, Grupo Ingenieria de Superficies, SEPI-ESIME, U.P. Adolfo Lopez Mateos, Zacatenco, Mexico D.F. 07738, Mexico) ,  Bravo-Barcenas D. (Instituto Politecnico Nacional, Grupo Ingenieria de Superficies, SEPI-ESIME, U.P. Adolfo Lopez Mateos, Zacatenco, Mexico D.F. 07738, Mexico) ,  Bravo-Barcenas D. (Universidad Autonoma Metropolitana, Av. San Pablo No. 180, Azcapotzalco, Mexico D.F 02200, Mexico) ,  Balmori-Ramirez H. (Instituto Politecnico Nacional, Centro de Nanociencias y Micro y Nanotecnologias, U.P. Adolfo Lopez Mateos, Zacatenco, Mexico D.F. 07738, Mexico) ,  Andraca-Adame J. (Instituto Politecnico Nacional, Centro de Nanociencias y Micro y Nanotecnologias, U.P. Adolfo Lopez Mateos, Zacatenco, Mexico D.F. 07738, Mexico) ,  Martinez-Trinidad J. (Instituto Politecnico Nacional, Grupo Ingenieria de Superficies, SEPI-ESIME, U.P. Adolfo Lopez Mateos, Zacatenco, Mexico D.F. 07738, Mexico) ,  Meda-Campana J.A. (Instituto Politecnico Nacional, Grupo Ingenieria de Superficies, SEPI-ESIME, U.P. Adolfo Lopez Mateos, Zacatenco, Mexico D.F. 07738, Mexico)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 309  ページ： 155-163  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 拡散焼なましプロセス(DAP)中のFeB Fe_2B層の進化に関する新しい結果を提示した。最初に,AISI-1045鋼の表面上のほう化物層の成長は,各温度での種々の曝露時間と,1173K1273Kの温度で粉末充填ホウ化プロセス(PPBP)を用いて開発した。FeBとFe_2B中のほう素拡散係数は,成長界面の物質収支方程式に従って推定し,Arrheniusの式でホウ化処理温度の関数として表した。さらに,DAPはSiC雰囲気を用いた曝露の4~8時間で1273Kで得られたホウ化した試料で実施した,拡張モデルにより提案されたアニーリング時間の理論値を考慮した。ホウ化物層微細構造の進化はFeB/Fe_2bとFe_2B/基板の界面速度,アニーリング時間の適用範囲のためのFeB層の犠牲にしてFe_2Bの成長の間の関係によって表現された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 拡散係数 ,  *ホウ化物 ,  ホウ化処理 ,  微細構造 ,  界面 ,  炭化ケイ素 ,  鉄 ,  *焼なまし ,  ホウ素 ,  Arrheniusの式
準シソーラス用語： 拡散モデル ,  界面速度 ,  温度関数 ,  曝露時間 ,  *均質化処理 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ほう化処理 ,  ほう化物層 ,  成長速度論 ,  拡散アニーリングプロセス ,  拡散モデル ,  界面速度

分類 (1件)： 表面硬化熱処理  (WC03030E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 拡散焼なまし ,  プロセス ,  ほう化物 ,  進化