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J-GLOBAL ID：201702287477086129   整理番号：17A0069223

タンタルドープ六方晶相Yang化WuのSR~(2+)への吸着:ゼータ電位の測定及び吸着メカニズムの研究【JST・京大機械翻訳】

Removal of Sr(2+) Ions by Ta-Doped Hexagonal WO_3:Zeta Potential Measurements and Adsorption Mechanism Determination

著者 (4件)： Jian Yuan (Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University) ,  Mu Wanjun (Institute of Nuclear Physics and Chemistry, China Academy of Engineering Physics) ,  Liu Ning (Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University) ,  Peng Shuming (Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University)
資料名： Wuli Huaxue Xuebao  (Wuli Huaxue Xuebao)
巻： 32  号： 8  ページ： 2052-2058  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0391A  ISSN： 1000-6818  CODEN： WHXUEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SR(2+)の吸着過程におけるTAドープ六方晶相Yang化Wu(HEX-WO_3)の表面ゼータ電位の変化を研究し,吸着過程の熱力学と吸着機構を更に検討した。結果は以下を示す。(1)PH値の範囲内で,TAドープHEX-WO_3懸濁液のΖ電位値は,溶液中の電解質の原子価の増加とともに増加した。(2)ゼータ電位は,イオン強度の増加とともに増加した。(3)TAドープHEX-WO_3のSR(2+)への吸着容量は,温度の低下とともに増加し,イオン強度の増加とともに減少した。(4)吸着過程の吸着エンタルピーは-47KJであった。SR(2+)イオンと材料表面の間の化学的相互作用は,MOL(-1)であった。(5)SR(2+)の吸着プロセスは,主に表面の吸着と材料の細孔内のイオン交換によるものであった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エンタルピー ,  原子価 ,  *ζ電位 ,  懸濁液 ,  イオン強度 ,  *ドーピング ,  細孔 ,  *電位 ,  熱力学 ,  イオン交換 ,  *吸着
準シソーラス用語： 化学的相互作用 ,  吸着容量 ,  吸着機構 ,  *六方晶相 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Ta ,  hex-WO_3 ,  Zeta potential ,  Sr(2+) ,  Adsorption mechanism

分類 (3件)： 吸着,イオン交換  (XD02060I) ,  吸着剤  (YB03000W) ,  下水,廃水の物理的処理  (SC03040L)

タイトルに関連する用語 (7件)： タンタル ,  ドープ ,  六方晶相 ,  吸着 ,  ゼータ電位 ,  メカニズム ,  研究