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J-GLOBAL ID：201702287995078998   整理番号：17A0446684

単層ReS_2の歪工学と光触媒への応用【Powered by NICT】

Strain engineering and photocatalytic application of single-layer ReS₂

著者 (3件)： Li Yan-Ling (School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University, Xuzhou, People’s Republic of China) ,  Li Yunguo (Department of Earth Sciences, University College London, Gower Street, London WC1E 6BT, United Kingdom) ,  Tang Chunlin (School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University, Xuzhou, People’s Republic of China)
資料名： International Journal of Hydrogen Energy  (International Journal of Hydrogen Energy)
巻： 42  号： 1  ページ： 161-167  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0192B  ISSN： 0360-3199  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一軸およびせん断歪下の単層ReS_2の電子的,動力学的,および光触媒特性を理論的に調べた。単層ReS_2は歪に強い異方性応答を示した。は広範囲のx軸方向歪の動的に安定しているが,2%y軸方向圧縮歪みでは不安定となる。単層ReS_2は間接バンドギャップ半導体であると計算され,1 5%軸方向引張歪下の間接-直接バンドギャップ遷移である。単層ReS_2は水の酸化反応を触媒することができない予測した。1 5%y軸方向の引張歪は,全体的な光触媒水分解のための単層ReS_2を可能にする。に加えて,単層ReS_2も全体的な水分解を触媒し,pH=3.8の酸性水溶液下で最も効率的である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *触媒 ,  軸方向 ,  剪断歪 ,  酸性 ,  *単一層 ,  酸化 ,  異方性 ,  水溶液 ,  *光触媒
準シソーラス用語： 水分解 ,  直接バンドギャップ ,  引張歪 ,  間接バンドギャップ ,  圧縮歪 ,  触媒特性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 単層 ,  Photocatalyst ,  水分裂 ,  歪工学 ,  せん断歪 ,  動的安定性

分類 (1件)： 気体燃料の製造  (YE02030F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 単層 ,  歪 ,  工学 ,  光触媒 ,  応用