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J-GLOBAL ID：201702288046765585   整理番号：17A0364367

有機改質バーミキュライトの構造と熱安定性【Powered by NICT】

Structure and thermal stability of organo-vermiculite

著者 (7件)： Su Xiaoli (Guangdong Provincial Key Laboratory of Mineral Physics and Material/CAS Key Laboratory of Mineralogy and Metallogeny, Guangzhou Institute of Geochemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou 510640, China) ,  Su Xiaoli (School of Material Science and Engineering, Jingdezhen Ceramic Institute, Jingdezhen 333001, China) ,  Su Xiaoli (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China) ,  Ma Lingya (Guangdong Provincial Key Laboratory of Mineral Physics and Material/CAS Key Laboratory of Mineralogy and Metallogeny, Guangzhou Institute of Geochemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou 510640, China) ,  Ma Lingya (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China) ,  Wei Jingming (Guangdong Provincial Key Laboratory of Mineral Physics and Material/CAS Key Laboratory of Mineralogy and Metallogeny, Guangzhou Institute of Geochemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou 510640, China) ,  Zhu Runliang (Guangdong Provincial Key Laboratory of Mineral Physics and Material/CAS Key Laboratory of Mineralogy and Metallogeny, Guangzhou Institute of Geochemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou 510640, China)
資料名： Applied Clay Science  (Applied Clay Science)
巻： 132-133  ページ： 261-266  発行年： 2016年 
JST資料番号： B0687B  ISSN： 0169-1317  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,有機バーミキュライト(HEVrm)を種々の量の界面活性剤(ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド,HDTMAB)と膨張バーミキュライト(EVrm)を修飾することにより調製した。得られたHEVrmをX線回折(XRD),Fourier変換赤外分光法(FTIR),および熱重量分析(TG)を用いてキャラクタライズした。文献で報告されたように有機モンモリロナイト(OMt)の基底間隔の緩やかな増加の代わりに,基底間隔の1ステップ増加はHEVrmで観察された。EVrmの層間空間中への界面活性剤のインターカレーションは均一ではなかった。特に,EVrmの層間空間の一部のみが低HDTMAB濃度で界面活性剤でインターカレーションされた;界面活性剤濃度の増加と共に,ますます多くの中間層空間は,インターカレートした,最後に「飽和」状態に達した。インターカレートした界面活性剤は中間層空間内でオールトランス立体配座を持つパラフィン単分子層配置を採用した。HEVrmにおけるインターカレートした界面活性剤の分解温度は純界面活性剤のそれに非常に類似していた。インターカレートした界面活性剤の熱安定性に対する粘土鉱物層の保護は明らかではない,これはOMtのそれと非常に異なっていた。は比較的大きな層間高さHEVrmにおける基底間隔の一段階的な増加に起因する可能性がある。これらの知見は,HEVrmの調製および応用のための非常に重要である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *熱安定性 ,  分解温度 ,  モンモリロナイト ,  立体配座 ,  界面活性剤 ,  粘土鉱物 ,  基底 ,  パラフィンワックス ,  X線回折 ,  インターカレーション ,  *バーミキュライト ,  単分子層 ,  熱重量分析
準シソーラス用語： 中間層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 有機バーミキュライト ,  界面活性剤改質 ,  層間構造 ,  熱安定性

分類 (2件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  珪酸塩鉱物  (DE08030A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 改質 ,  バーミキュライト ,  熱安定性