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J-GLOBAL ID：201702288264965974   整理番号：17A0118101

ゾル-ゲル浸漬法を用いて調製したNドープZnOナノロッドアレイの構造と光学的性質【Powered by NICT】

Structural and optical properties of N-doped ZnO nanorod arrays prepared using sol-gel immersion method

著者 (7件)： Ismail A.S. (Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Mamat M.H. (Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Sin N.D. Md. (Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Malek M.F. (Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Saidi S.A. (Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Yusoff M.M. (Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Rusop M. (Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： SCOReD  ページ： 1-6  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素(N)をドープした酸化亜鉛(ZnO)ナノロッドアレイをゾル-ゲル浸漬法を用いたアルミニウム(Al)をドープしたZnOシード層触媒上に合成した。XRD分析は,濃度が増加すると膜の歪/応力が結晶サイズと格子定数の増加は減少させることを示した。FESEM画像は,ナノロッドは六方晶系形状を示すことを明らかにした。ナノロッドの平均直径は150nm(アンドープ)から230nm(3at.%)に増加した。NドープZnOナノロッドアレイは,可視領域で良好な透過率特性をdisplaid。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 画像 ,  X線回折 ,  *光学的性質 ,  透過率 ,  *ドーピング ,  *ナノロッド ,  触媒 ,  格子定数 ,  *酸化亜鉛 ,  六方晶系 ,  *浸漬
準シソーラス用語： 可視領域 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  シード層 ,  *ナノロッドアレイ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： ゾル-ゲル ,  浸漬法 ,  調製 ,  ドープ ,  ZnOナノロッド ,  アレイ ,  光学的性質