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J-GLOBAL ID：201702288683501243   整理番号：17A0452482

仮像変換からのMCM-41型シリカ材料の細孔径分布-過剰表面仕事に基づく最小入力データアプローチ【Powered by NICT】

Pore size distribution of MCM-41-type silica materials from pseudomorphic transformation - A minimal input data approach based on excess surface work

著者 (10件)： Kolesnikov A.L. (Institut fuer Nichtklassische Chemie e.V., Permoserstr. 15, 04318 Leipzig, Germany) ,  Uhlig H. (Institut fuer Nichtklassische Chemie e.V., Permoserstr. 15, 04318 Leipzig, Germany) ,  Mollmer J. (Institut fuer Nichtklassische Chemie e.V., Permoserstr. 15, 04318 Leipzig, Germany) ,  Adolphs J. (Porotec GmbH, Niederhofheimer Str. 55A, 65719 Hofheim am Taunus, Germany) ,  Budkov Yu. A. (G. A. Krestov Institute of Solution Chemistry of the Russian Academy of Sciences, Akademicheskaia 1, Ivanovo, Russia) ,  Budkov Yu. A. (Department of Applied Mathematics, National Research University Higher School of Economics, Tallinskaia 34, Moscow, Russia) ,  Georgi N. (GMBU, Erich-Neu-Weg 5, 06120 Halle (Saale), Germany) ,  Enke D. (Institut fuer Technische Chemie, Universitaet Leipzig, Linnstr. 3, 04103 Leipzig, Germany) ,  Glaeser R. (Institut fuer Technische Chemie, Universitaet Leipzig, Linnstr. 3, 04103 Leipzig, Germany) ,  Glaeser R. (Institut fuer Nichtklassische Chemie e.V., Permoserstr. 15, 04318 Leipzig, Germany)
資料名： Microporous and Mesoporous Materials  (Microporous and Mesoporous Materials)
巻： 240  ページ： 169-177  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0642C  ISSN： 1387-1811  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多孔質シリカ系材料の収集は,秩序化したMCM-41型材料に,クロマトグラフィーに通常使用されるシリカゲルの擬形態変換によって合成した。本修飾材料は非修飾シリカ材料のスリット型形状と完全に変態した材料のMCM-41型構造の円筒状細孔構造をもつ二モード細孔径分布(4nmのMCM-41およびシリカゲルの20nm)を示した。Derjaguin Broekhoffde Boer(DBdB)理論と以前に公表された過剰表面仕事(ESW)アプローチに基づいて,参照等温線を必要とせずに実験等温線から直接細孔径分布を導出する方法を提案した。ESWと分離圧アプローチを結びつけると,臨界幅の式を導出した。これは毛管凝縮が起こる範囲の相対圧力に臨界幅を関係づける。法は簡単で,標準NLDFT(非局所密度汎関数理論)アプローチに匹敵する情報を提供する。相互作用モデルがないために法は相互作用パラメータが利用できない場合に適用可能である。は一般的に使用されるNLDFT二峰性二相シリカ材料の特性化とBJH(Barrett Joyner Halenda)法の結果を比較する方法の有用性を実証した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： キャラクタリゼーション ,  等温線 ,  *細孔径分布 ,  密度汎関数法 ,  シリカゲル ,  *仮像 ,  円筒 ,  *MCM-41 ,  臨界 ,  相互作用パラメータ ,  細孔構造 ,  *二酸化ケイ素 ,  毛管凝縮
準シソーラス用語： 多孔質シリカ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 細孔径分布 ,  窒素吸着 ,  バイモーダル多孔性 ,  密度汎関数理論 ,  M CM-41

分類 (2件)： 合成鉱物  (CD01040K) ,  吸着剤  (YB03000W)

タイトルに関連する用語 (6件)： 仮像 ,  MCM-41 ,  シリカ ,  細孔径分布 ,  仕事 ,  入力データ