文献

J-GLOBAL ID：201702293778052730   整理番号：17A0173956

ダイヤモンド膜の核形成と成長過程をMPCVD法により調製した。【JST・京大機械翻訳】

MPCVD-produced Diamond Films:Nucleation and Growth Processes

著者 (8件)： Jiang Caiyi (State International Joint Research Center of Advanced Technology for Superhard ...) ,  Gao Jiyun (Key Laboratory of Comprehensive Utilization of Mineral Resources in Ethnic ...) ,  Guo Shenghui (State International Joint Research Center of Advanced Technology for Superhard ...) ,  Yang Li (State International Joint Research Center of Advanced Technology for Superhard ...) ,  Peng Jinhui (State International Joint Research Center of Advanced Technology for Superhard ...) ,  Zhang Libo (State International Joint Research Center of Advanced Technology for Superhard ...) ,  Hu Tu (Key Laboratory of Unconventional Metallurgy,Ministry of Education,Kunming ...) ,  Wang Shixing (Key Laboratory of Unconventional Metallurgy,Ministry of Education,Kunming ...)
資料名： Cailiao Daobao  (Cailiao Daobao)
巻： 30  号： 6A  ページ： 83-88  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2126A  ISSN： 1005-023X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ダイヤモンド膜の物理化学的性質と応用分野を簡単に紹介した。主な化学気相堆積法の利点と欠点を比較し,MPCVDの技術的ボトルネックを指摘した。ダイヤモンド膜の核形成過程に及ぼす反応器の圧力,基板温度,マトリックス材料,および強化核形成技術の影響を要約した。それは,内部圧力,基板温度,高炭素源濃度およびプラズマ前処理によって,核形成密度を効果的に改善することができた。ダイヤモンド膜の成長に及ぼすプロセスパラメータの影響とマイクロメータ,ナノ,およびダイヤモンド膜の技術的特性と応用について議論した。本論文では,ダイヤモンドダイヤモンド膜の技術的問題を指摘し,技術的ボトルネックを解決するための最新の研究を要約した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 基板温度 ,  *核形成 ,  前処理 ,  化学蒸着 ,  *ダイヤモンド ,  内圧 ,  成長段階 ,  プロセスパラメータ ,  マイクロメータ ,  反応器
準シソーラス用語： 炭素源 ,  形成過程 ,  物理化学的性質 ,  *マイクロ波プラズマCVD ,  *ダイヤモンド膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： diamond films ,  microwave plasma ,  chemical vapor deposition ,  nucleation ,  growth

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： ダイヤモンド膜 ,  核形成 ,  成長過程 ,  MPCVD ,  調製