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J-GLOBAL ID：200902107400939242   整理番号：94A0179245

イオンビームミキシングによる酸化アルミニウム薄膜の諸特性

The property of Al₂O₃ thin films prepared by ion beam mixing.

著者 (8件)： 緒方潔 (日新電機) ,  山口浩一 (京セラ) ,  木山精一 (日新電機) ,  平野均 (三洋電機) ,  清水重雄 (日立造船) ,  木幡譲 (東芝タンガロイ) ,  節原裕一 (日新電機) ,  三宅正司 (大阪大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 54th  号： 2  ページ： 450  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオンビームミキシング ,  酸化アルミニウム ,  薄膜