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J-GLOBAL ID：200902125700493066   整理番号：02A0395739

自己組織化単分子層をシード層へ適用した無電解NiReP拡散防止層の作製と評価

著者 (6件)： 逢坂哲弥 (早稲田大 理工) ,  高野奈央 (早稲田大 各務記念材料技研) ,  黒川哲也 (早稲田大 理工) ,  金子具視 (早稲田大 理工) ,  中西卓也 (早稲田大 各務記念材料技研) ,  上野和良 (NEC)
資料名： 電気化学会大会講演要旨集
巻： 69th  ページ： 382  発行年： 2002年03月25日 
JST資料番号： Y0048A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 二酸化ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 自己組織化単分子層 ,  シード層 ,  電解 ,  拡散 ,  防止層 ,  作製 ,  評価