文献
J-GLOBAL ID:200902154133366422
整理番号:97A0936275
化合物半導体ショットキー障壁高の電気化学プロセスによる制御
Schottky Barrier Formation to Compound Semiconductors by in-situ Electrochemical Process and Its Controllability.
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=97A0936275©=1") }}
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0936275&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=X0038A") }}