文献
J-GLOBAL ID:200902172541225843
整理番号:96A0949299
in-situ電気化学プロセスを用いたInP系材料に対する高いショットキー障壁の形成とその形成機構
Formation of high Schottky barrier heights to InP-based materials by in-situ electrochemical process and its mechanism.
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{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0949299&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L1739A") }}