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J-GLOBAL ID：200902217617573637   整理番号：09A0091882

ホイスラー合金薄膜を上部フリー層に用いた微細MTJの作製と評価

著者 (5件)： 増田昌洋 (北大 大学院情報科学研究科) ,  澤田圭佑 (北大 大学院情報科学研究科) ,  植村哲也 (北大 大学院情報科学研究科) ,  松田健一 (北大 大学院情報科学研究科) ,  山本眞史 (北大 大学院情報科学研究科)
資料名： 応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集  (応用物理学会北海道支部学術講演会・日本光学会北海道地区講演予稿集)
巻： 44th-5th  ページ： 44  発行年： 2009年01月08日 
JST資料番号： L5918A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *磁性薄膜 ,  *ホイスラー合金 ,  *トンネル接合 ,  *強磁性 ,  磁気センサ ,  磁気メモリ ,  高分解能 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *電子ビーム蒸着 ,  *薄膜成長 ,  基板 ,  酸化マグネシウム ,  多層膜 ,  バッファ層 ,  金属薄膜 ,  コバルト含有合金 ,  鉄合金 ,  イリジウム含有合金 ,  マンガン合金 ,  ルテニウム ,  ケイ素合金 ,  マンガン含有合金 ,  焼なまし ,  微細構造 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  レジスト ,  イオンエッチング ,  *磁気抵抗 ,  トンネル効果

分類 (3件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (6件)： ホイスラー ,  合金薄膜 ,  微細 ,  MTJ ,  作製 ,  評価